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第43回マイクロナノ先端技術交流会
MEMSの新たなアプリケーションと新たなプロセス技術
2025年3月10日(月)
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次回のマイクロナノ先端技術交流会は、以下のとおり開催いたします。
皆様からの参加申込をお待ちしております。
一般財団法人マイクロマシンセンターでは、MEMS産業の裾野を広げ、その発展を促進するために、産業交流の一環としてマイクロナノ先端技術交流会を実施しております。これは産学交流を図ることを目的に、毎回大学等において先端的な研究に従事する方々を講師としてお招きし、交流の機会を設けようとするものです。
MEMSについて、スマートフォンのモーションセンサ・高周波フィルタ、自動車の制御に続くキラーアプリが、なかなか見つからないとよく耳にしますが、テキスト・画像・音声等を自律的に生成する生成AIの急速な進化と普及によって、自動車からロボットまでが自律化する未来や現実と仮想空間が融合する世界が近付きつつある中で、AIが物理世界を理解するためのセンサの重要性が高まっています。
今回は、MEMSセンサ・エナジーハーベスターのアプリケーションで今後重要と思われる、仮想空間と物理空間の双方向連携環境の開発について、東京大学生産技術研究所
人間・社会系部門、インタースペース研究センター 豊田啓介特任教授より、「マルチエージェントネットワーク基盤としての建築環境およびコモングラウンドの可能性」についてご紹介頂きます。
さらに、小型で高性能のMEMSデバイスの設計・開発において、競争力の一端を担う、最先端の厚膜ポリシリコン成長技術について、株式会社KOKUSAI ELECTRIC プロセス開発本部 第四プロセス開発部 鋪田嚴様より、「MEMSデバイス適用へ向けた極厚膜LPCVD Poly-Si膜の基礎評価」についてご紹介頂きます。
開催日時： 2025年3月10日(月) 13：55～16：00
開催場所：オンラインセミナー（Webex）
参 加 費：無料
参加申込：インターネット 参加申込
主 催：一般財団法人マイクロマシンセンター
【プログラム】
13:55～14:00 主催者挨拶
（一財）マイクロマシンセンター 専務理事 長谷川 英一
14:00~15:00
「マルチエージェントネットワーク基板としての建築環境および
コモングラウンドの可能性」
講演概要：急速な計算及び通信技術の進展により、実環境での自律エージェントの多様かつ複合的な実装が進みつつある。現状の個別のエージェントやサービスが独立してセンシングやコンピューティング、アクチュエーションを行い、固有の仕様に閉じることの調整コストの増大に対して、環境側がそれらのリソースを共有し、環境自体のエージェント化を通して系としてのスマート化を志向する可能性が議論されている。その一つとして、コモングラウンドの概念と開発の現状を概説する。
東京大学 生産技術研究所 人間・社会系部
インタースペース研究センター
特任教授 豊田 啓介 氏
15:00~16:00
「MEMSデバイス適用へ向けた極厚膜LPCVD Poly-Si膜の基礎評価」
講演概要：LPCVDプロセスにより、低膜ストレス（-6.5MPa）かつ低ストレス勾配（-0.65MPa/μm）な特性を25μmの厚さで実現した。この極厚膜LPCVD Poly-Siは、結晶成長を抑制する阻害層を一定膜厚毎に挿入した構造（ILIS：Inhibition Layer Inserted Structure）の採用によって実現した。この極厚膜LPCVD Poly-Siは、厚膜Siとして広く採用されているEpi Poly-Siに代わる新たなMEMS材料として期待できる。
株式会社 KOKUSAI ELECTRIC
プロセス開発本部 第四プロセス開発部
鋪田 嚴 氏
(プログラムがやむを得ず変更になる場合がございますのでご了承下さい。)
お問合せ：
一般財団法人マイクロマシンセンター
産業交流部長 逆水 / 藤井
E-mail：sentan(at)mmc.or.jp
※ (at) は @ に置き換えて下さい。
〒101-0026 東京都千代田区神田佐久間河岸６７ ＭＢＲ９９ビル６階
TEL： 03-5835-1870 FAX： 03-5835-1873
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