［ファインMEMSプロジェクト 2006-2008］

研究開発テーマ：ＭＥＭＳ／半導体の一体形成技術の開発

MEMS-半導体プロセス統合モノリシック製造技術

（助成事業：株式会社日立製作所）

CMOSプロセス互換のMEMSプロセスによるLSIとMEMSモノリシック集積化技術を開発する。CMOS材料プロセスによるMEMS構造体形成、LSI微細加工技術を活かした空洞形成封止を行い、高機能化、高信頼化を図る。

　開発者の抱負

　後藤　康

　中央研究所ナノエレクトロニクス研究部　主任研究員

　MEMSを半導体と融合することにより、ITの世界で情報を扱ってきたLSIは、実世界と直接情報をやりとりする新らたなデバイスへ飛躍します。

　本プロジェクトでは、このための基礎固めをできればと思います。