スパッタリング 【すぱったりんぐ:Sputtering】 0603002-199

【定 義】 加速されたイオンの運動エネルギーを利用して固体表面の構成原子を叩き出すこと。

【解 説】 不活性あるいは反応性のイオンを利用したスパッタリング作用により種々の加工が行える。 スパッタリングを利用した除去加工、叩き出した原子を付着させる堆積加工等がある。

【参考資料】 (4)(6)(7)(9)

【関連用語】 イオン注入蒸着