MMC-MIF-BEANS Monthly

[No.2009-05] 2009年5月21日発行


ニ ュ ー ス 目 次  


     1 ハノーバメッセ2009への出展(2009年4月20日~24日)
    2 第15回国際マイクロマシンサミットの開催報告(2009年5月5日~5月8日)
    3 MEMS薄膜材料疲労試験法がIEC国際標準を獲得
    4 「第2回電気等価回路から考えるMEMS設計手法研究会」について
    5 BEANSプロジェクト 2年目がスタート
    6 MemsONE Ver2の状況報告


    1 LETIワークショップ(2009年6月11、12日)
    2 IEC会議及び第5回日韓中MEMS標準化ワークショップの開催(2009年6月16日
     ~ 19日)

    3 第18回マイクロナノ先端技術交流会の開催(2009年6月24日)
    4 マイクロナノ2009の開催案内(2009年7月29日~31日)
    5 アフリエート関係のイベント



    
1 経済政策動向
    2 産業技術政策動向


    1 平成21年度第1回運営委員会・理事会・評議員会及びMEMS協議会の開催案内
    2 センターの人事異動
    3 METIの人事異動
    4 COOL BIZの実施
    
  
ニ ュ ー ス 本 文

  

1 ハノーバメッセ2009への出展(2009年4月20日~24日)

 MMCでは4月20日(月)~24日(金)ドイツ、ハノーバー市で開催されたハノーバーメッセのマイクロテクノロジーフェアに出展し、日本の産官学連携によるMEMS分野の技術開発、事業開発推進を紹介し、あわせて、マイクロテクノロジーフォーラムにて、BEANSプロジェクトの概要、成果を発表しました。
 マイクロテクノロジーフェアは、MEMS協議会の海外アフィリエートであるiVAMが主催するもので、4回目の出展となる今回はMMCが推進する支援活動、BEANSプロジェクト、及び会員企業の事業展開をオリンパス(株)、パナソニック電工(株)の協力を得、紹介しました。また、フォーラムにおいてはJAPAN SESSIONでMMC/BEANSからは東京大学杉山先生(3D BEANSセンター センター長)、パナソニック電工(株)中田様(Life BEANSセンター九州)、安達が発表し、その他に、早稲田大学(松永先生、西永先生)、産総研前田様、李様の計6件の発表がありました。
 MMCの活動とBEANSの活動を安達が紹介し、中田様はLife BEANSセンター九州で推進している有機半導体のナノドット形成を、杉山先生は3D BEANSセンターで進めている超低損傷エッチング、及び超臨界流体による製膜について発表されました。産総研の前田先生も産総研のマイクロナノ研究の紹介のなかで、Macro BEANSセンターの取り組みを紹介していただいたこともあり、BEANSプロジェクトのPRができました。
今年はハノーバーメッセのパートナー国である韓国から多くの聴衆が参加しており、BEANSプロジェクトに大きな関心を寄せ、韓国においても産学官連携のプロジェクト推進をいかに進めればよいのか検討しているとのことでした。
 今年のハノーバーメッセは、世界的な経済不況の中の開催でありましたが例年より多くの来場者があり、マクロテクノロジーフェアに出展している企業からは例年より引き合いも多く、商売に結びつく割合も多くなるだろうとの声が聞こえていました。
MMCでは来年もハノーバーメッセへの出展を予定しておりますのでご協力お願いします。

MMCのブース
 
Forumでの発表:杉山先生
 
Forumでの発表:中田様

2 第15回国際マイクロマシンサミットの開催報告(2009年5月5日~5月8日)

 第15回国際マイクロマシンサミットは、5月5日(火)から5月8日(金)の4日間、カナダ・アルバータ州・エドモントン・シャーコンファレンスセンターで開催されました。折からの豚インフルエンザの影響で、日本、中国、シンガポール、ギリシャからの参加はキャンセルとなりましたが、サミット自体は予定通り開催されました。
 マイクロマシンサミットは1995年に第1回会議を京都で開催して以来、開催希望国の持ち回りで毎年開催しています。15回目となった今年は、エネルギーと環境をメインテーマに初日と最終日のテクニカルツアーを含め、各国のリーダー同士の意見交換が行われました。
 日本からは、東京大学・下山勲教授をチーフデリゲート、オムロン(株)今仲執行役員常務、三菱電機(株)久間上席常務執行役、オリンパス(株)唐木執行役員をデリゲートとして、オブザーバーも含め9名が参加予定でした。しかし、感染防止に対応した渡航禁止が大学、各企業で出される中、日本からの全員が参加断念を決断するに至りました。ただし、カナダ事務局の要請に応え、5月6日7時から約30分、マイクロマシンセンター会議室からインターネット経由で下山先生のプレゼンテーションだけを実施し(写真)、つながりを保つことができました。
 
プレゼンテーション風景(MMC会議室)
 次回はドイツ・ドルトムントでの開催予定となっています。厳しい経済環境と競争の下でMEMSおよびナノテクをどのように方向付けていくか、国際マイクロマシンサミットにおける各国との交流が大きな刺激となることが期待されます。MEMS協議会の会員の皆様にも、この機会を大いに活用して頂きたいと思います。

3 MEMS薄膜材料疲労試験法がIEC国際標準を獲得

 わが国提案のMEMS薄膜材料疲労試験法が、IEC規格(IEC 62047-6; Semiconductor devices―Micro-electromechanical devices―Part 6: Axial fatigue testing methods of thin film materials)として2009年4月7日に発行されました。これは、日本発のMEMS関連国際規格としては、用語、薄膜引張試験法、同標準試験片に続いて4番目の規格となります。
 MEMSの実用性や安全性を確保するためには、それに用いられる各種薄膜材料の耐久性を的確に計測、評価し、それに基づいて、設計・製作を行うことが必要不可欠です。そのため、薄膜材料の耐久性を評価する疲労試験法の標準化が望まれていました。マイクロマシンセンターでは、2003~2005年経済産業省及びNEDOからの委託により規格案を開発、2006年にIECへ提案し、規格化に向けたフォローを行ってきました。
 本規格は、MEMS、マイクロマシン等の主要構造材料となる薄膜から作製された長さ、幅が1mm以下、厚さが10 μm以下の平滑試験片に対する(一定荷重振幅あるいは一定変位おける)軸荷重引張―引張疲労試験法を規定しています。
 本規格は日本規格協会(http://www.jsa.or.jp/default.asp)で購入可能です。

4 「第2回電気等価回路から考えるMEMS設計手法研究会」について

 12月のMMC/MIFニュースでお知らせしました2008年12月1日に行われた第1回に引き続き,第2回の電気等価回路から考えるMEMS設計手法研究会が東京大学本郷キャンパス工学部2号館213講義室にて13:30から開催されました.研究会主査である静岡大学電子工学研究所橋口教授のご挨拶の後,二つの講演とファインMEMSプロジェクトで研究開発された等価回路ジェネレータについて概要説明が行われました.

<プログラム>
 1.開催挨拶     静岡大学 電子工学研究所教授  橋口 原
 2.講演 メカニカルフィルター旧世代人から新世代人への技術伝承をどの様に進めるか
  -等価回路解析手法を中心として- 
                (有)メカノトランスフォーマ 代表取締役 矢野 健氏
 3.講信氏,藤田博之氏,○年吉 洋氏
 4.講習:等価回路ジェネレータの概要
   イントロダクション           静岡大学 電子工学研究所教授 橋口 原
   Webライブラリシステムの概要           みずほ情報総研 浅海 和雄
   等価回路モデルの導出手法             みずほ情報総研 藤原 信代
   電気・機械パラメータの抽出手法           数理システム  望月 俊輔
   等価回路モデル・3次元CADモデル相互変換ツール  
                      日本ユニシス・エクセリューションズ 前田 幸久
   Webライブラリシステムの利用方法         みずほ情報総研 浅海 和雄
 5.ディスカッション

 主査ご挨拶の後, (有)メカノトランスフォーマ 代表取締役 矢野健氏より,「メカニカルフィルター旧世人から新世代人への技術伝承をどの様に進めるか-等価回路手法を中心として」と題して講演が行われました.講演では,等価回路手法を用いて設計されてきたメカニカルフィルターの設計方法を中心にお話がありました.特に,等価回路のパラメータの決め方について,会場から質疑が交わされ,等価回路設計手法が従来から有効な手段の一つであることが判りました.引き続き,東京大学の年吉教授より「運動方程式の等価回路による静電マイクロアクチュエータと回路の連成解析」と題して講演がありました.講演では,近年のMEMS設計手法についてご説明があり,最近はシステム計算を先に実施して,必要があれば,FEM等でボトムアップ設計するようになったということであった.具体的には,年吉先生が研究中である,Qucs(Quite Universal Circuit Simulator)を用いた設計手法が紹介され,非常に興味深い内容の講演であった.
等価回路ジェネレータの講習では,等価回路ジェネレータの開発者から,それぞれの機能概要説明があった.その中でも橋口教授からの説明の中で,等価回路ジェネレータのポジションは台湾におけるケイデンスとの連携により進められているシミュレータにおけるMEMSのIPモデルを生成するものであり,相補的なポジションであることが興味深かった.また,等価回路手法も用いることによる利点として,素子の動作特性を評価できること,パラメトリックな解析が可能なこと,構造パラメータが特性に及ぼす影響を数値的に把握できること,回路を見ながら新しいアイデアが生まれることが挙げられていた.
最後に幹事である京都大学土屋准教授より関連する研究会の報告があり,応用物理学会 集積化MEMS技術研究会,第26回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム:「等価回路を用いたMEMS設計」企画セッションが紹介された.
 次回は等価回路ジェネレータのチュートリアルが紹介される予定であるとのことです.

5 BEANSプロジェクト 2年目がスタート

 この4月から本プロジェクトは経済産業省からNEDOへ継承されて、新しい研究推進体制でプロジェクトがスタートします。これを機に、これまでプロジェクトの推進母体であった旧BEANS研究所が、新たに技術研究組合BEANS研究所として組織が再編されて、推進体制も一層強化されました。
 本年度は、昨年度の実施活動結果からの課題や反省点を踏まえて、基本方針にプロジェクトの円滑かつ効率的なマネジメントを掲げています。まず、そのために実施計画書にはできるだけ分かり易い目標と期待する成果を記載し、コミットメントしています。研究開発では計画を立ても期待どおりに進まずに予想外のことが起きてしまうのが常であります。これが研究の楽しさや醍醐味でもあるわけですが、これが時には興味主導の研究や目先の成果にトラップされて、無駄な研究や日程遅れが出てしまいます。もちろん、ここから大発見や大発明につながるハプニングが出ることもあるので、一概に否定はできません。しかし、プロジェクト研究である限りはBEANSの最終目標や期待される成果から外れることは許されません。今年はこの点をプロジェクトマネジメントへしっかりと反映していきます。
 次には、研究拠点間のテーマ連携と研究交流の促進を掲げています。本年度の実施計画には基本計画にはなかった3DBEANSセンターとLife BEANS九州との間で融合テーマを企画しました。この研究テーマは3DBEANSのコア技術である低損傷エッチング加工技術をLife BEANSの有機材料の成膜加工に応用することで、これまで世の中で見られない有機半導体材料の3次元構造形成プロセスができる可能性が見えはじました。この融合テーマは初年度に予備実験結果から発案されたものですが、おなじくMacro BEANS とLife BEANSや3D BEANSとLife BEANSと間にもこの種の融合テーマが考えられます。本年度は予備実験等からその可能性を検討して、次の融合テーマが創生されることを期待しています。

6 MemsONE Ver2の状況報告

 本年2月初旬からMemsONE Ver2.0をリリース致しました。このバージョンは、Ver1.1に対する機能改善・強化と安定化を図ると伴に、Vista(32/64bit)版への対応も図っています。このVista 64bit版のリリースによって、より大規模な解析モデルにも対応できるようになりました。是非、ご活用下さい。
機能改善・強化項目の詳細に付きましては、ホームページ:
../../mems-one/hiroba/release_info/ )をご覧下さい。
また、MemsONE全般に付きましては、ホームページ:
../../mems-one/ )をご覧下さい。
 
Ver2.0 DVDラベル

 Ver2.0は、アカデミック研究版ユーザに対して無償アップデートが実施され、使い勝手が向上したとの評価を得ています。また、Ver2.0のリリースにより、2年目に入るユーザのライセンス更新および新規ユーザの獲得が進みつつあります。
 本年度は、Ver2.0をベースに昨年度の実績を凌ぐライセンス数の獲得を目指すと伴に、使い勝っての向上に力点をおいた次期バージョン(2010年2月リリースを予定)の開発等の普及活動を推進して行きます。


 

1 LETIワークショップ(2009年6月11、12日)

 日本のマイクロマシンセンター、BEANS研究所とフランスのCEA-LETI(フランス原子力庁 電子・情報研究所)は、2機関の協力関係が強化されたことを受けて、MEMS開発をテーマとするワークショップを共催することになり、ここにお知らせいたします。ワークショップは、6月11日と12日に、ヨーロッパでも最先端のマイクロ・ナノテクノロジーの研究開発拠点であるMinatecで開催されます。
 ワークショップの目的は、日本とフランス及び欧州のMEMS関係者の連携を強化すること、更に様々なMEMSに関する計画を網羅的に紹介することにより、MEMS市場の発展のために国際協力が必要なテーマを探すことです。

・ 会議: :6月11日の午前と午後、12日の午前には次のセッションが行われます。
 1、 先端コンポーネントとNEMS
 2、コンポーネント/スペシフィックアプリケーション
 3、 インテグレーション、パッケージング、信頼性
 4、 MEMSプロセスに於ける標準化
 5、 国家プロジェクト、連携
 6、 総括、ラウンドテーブル

・ STマイクロエレクトロニクス クロール工場見学(グルノーブルから20km)
 2日目にはクロールに移動し、STマイクロエレクトロニクスの世界レベルの300mmウェハー製造ライン見学を予定してます。

 MEMSに関係する主要研究開発機関、特にLETIとHTAアライアンスを結ぶCSEM、Fraunhofer、VTTなどがこのワークショップに参加することになっています。又、ヨーロッパの産業関係者も出席しますので、日本の産業関係者の参加をお待ちしています。
 このような背景から、私たちは、皆様に御参加いただくことによりこのワークショップの意義が益々重要なものとなることを確信し、主催者の代表として、ぜひ皆様、又皆様の協力機関のご参加をお願いしたいと存じます。

2 IEC会議及び第5回日韓中MEMS標準化ワークショップの開催(2009年6月16日~19日)

 IECのSC47E/WG1(センサ)、SC47E/WG2(マイクロ波デバイス)及びSC47F/WG1(MEMS)のアドホック会議、並びに第5回日韓中MEMS標準化ワークショップが以下の要領で開催されます。SC47F/WG1では、「ウエハ・ツー・ウエハ接合試験法」、「薄膜曲げ試験法」、「FBAR-Filter」、「RF-MEMSスイッチ」及び日本が新規に提案した「共振振動を用いた疲労試験法」が審議される予定です。
日韓中MEMS標準化ワークショップは、日本、韓国、中国の3ヶ国におけるMEMS標準化に関する情報交換・協力推進の場として2005年に東京で第1回が開催され、以降3ヶ国の持ち回りでIECのMEMS標準化会議に合せて開催されています。
◇場所;済州島(韓国)
◇スケジュール
 ・2009年6月16日(火);SC47E/GW2(マイクロ波デバイス)
 ・2009年6月17日(水);SC47F/WG1(センサ)、SC47F/WG1(MEMS)
 ・2009年6月18日(木);SC47F/WG1(MEMS)
 ・2009年6月19日(金);第5回日韓中MEMS標準化ワークショップ

3 第18回マイクロナノ先端技術交流会の開催(2009年6月24日)

 (財)マイクロマシンセンターでは、MEMS協議会の産学連携事業の一環として、賛助会員企業の専門家を対象に、マイクロナノ技術に関する各産業分野における先端技術への認識と理解を深め、マイクロナノ技術の普及啓発と産学の技術交流を図ることを目的として、「マイクロナノ先端技術交流会」を実施しています。
第18回のマイクロナノ先端技術交流会は、東京工業大学 黒澤実准教授、東京大学 須賀唯知教授をお招きし、下記のとおり開催します。

 開催日時: 平成21年6月24日(火) 13:25~17:00~19:00
 開催場所:(財)マイクロマシンセンター テクノサロン
         〒101-0026 東京都千代田区神田佐久間河岸71-3 柴田ビル 3階
 プログラム:
  13:25~13:30 主催者挨拶
        (財)マイクロマシンセンター 専務理事 青柳 桂一
  13:30~15:10 
      講演題目: 「弾性表面波リニアモータ」
      講  師 :東京工業大学 大学院 総合理工学研究科物理情報システム専攻
                                黒澤 実  准教授
      講演内容: 古くからのMEMSデバイスである弾性表面波素子を用いたリニアモータについて、その研究の取り掛かりから,現在に至るまでを紹介するとともに,今後の展開を述べる。

  15:10~15:20 ----- 休憩 ----- 

  15:20~17:00 
      講演題目: 「低温ウエハ接合」
      講  師: 東京大学 大学院 工学系研究科 精密機械工学専攻
                                須賀唯知 教授
      講演内容: プラズマやイオン照射を用いたウエハの低温接合とその3D実装・MEMSパッケージへの適用の可能性を紹介する。特に、真空中や大気中での接合、ナノ接合層を用いた接合、それらの 接合メカニズム等について述べる。

  17:00~17:10 ----- 休憩 ----- 

  17:10~19:00 技術相談及び交流会
       (会場:マイクロマシンセンター本部 小会議室
          東京都千代田区神田佐久間河岸66 MBR99ビル6階)

 開催案内については、MEMS協議会ホームページやマイクロナノExpressにてご案内しますので、皆様のご参加をお願いいたします。

4 マイクロナノ2009の開催案内(2009年7月29日~31日)

 マイクロナノ/MEMS分野の最新技術・製品が効果的に一望できる総合イベント「マイクロナノ2009」平成21年7月29日(水)~7月31日(金)の3日間、東京ビッグサイトで開催することで準備を進めています。
今年は、世界最大規模のMEMS、ナノテク、超精密・微細加工、バイオに関する国際展示会「マイクロマシン/MEMS展」が第20回目を迎える節目にあたり、展示会ではマイクロナノ/MEMS分野の産業展開をよりビジュアルに表した特別展示や、展示会場内に設けた特設会場においては、マイクロナノ/MEMS分野の国内外先端技術動向や海外の産業化動向の他、「マイクロマシン/MEMS展」の20周年を記念した特別プログラムなど、多彩なプログラムを計画しています。
◆『第20回マイクロマシン/MEMS展』
 (MEMS、ナノテク、超精密・微細加工、バイオに関する国際展示会)
   会期:7月29日(水)~7月31日(金)の3日間
   会場:東京ビッグサイト 東5ホール
       【ご出展お申込み・お問い合わせ先】
         マイクロマシン/MEMS展事務局
         メサゴ・メッセフランクフルト株式会社
          〒102-0073
           東京都千代田区九段北2-3-7 前川九段ビル3F
              Tel. 03-3262-8453
              Fax. 03-3262-8442
               E-mail. info@micromachine.jp
               Website. www.micromachine.jp

◆同時開催シンポジウム・カンファレンス:
  会場はいずれも『第20回マイクロマシン/MEMS展』展示会場内特設会場を予定。
  ①第15回国際マイクロマシン・ナノテクシンポジウム~MEMS World~
                  (主催:マイクロマシンセンター/MEMS協議会)
 国際マイクロマシン・ナノテクシンポジウムは、最先端技術及びその動向について内外の学識経験者と情報を交換し、我が国のマイクロマシン/MEMS技術の更なる発展に寄与することを目的とし、1995年以来、当マイクロマシンセンターを主催者として開催して参りました。
 昨年は、LSIとの集積化(第2世代MEMS)やナノ・バイオとの異分野融合(第3世代MEMS)の動きに注目し 、さらにウエハーサイズの大口径化などにも着目しました。
 本年は、これらの大きな動きの中で、「集積化・融合化の進むMEMS/ナノデバイス 産業化のブレークスルー」 ~研究開発拠点の集約化とMEMSアプリケーション~をテーマとして講演を集め、議論の場を 提供します。
 第2世代や第3世代MEMSに向かう方向性の中で、何がMEMS/ナノデバイスの産業化促進にとってキーとなるかを問題意識として、国際的に進む研究開発の拠点集約化に関する動き、産業化にとって最も重要なアプリケーションの動向、さらにその実現のための製造・材料技術について内外からの発表を頂きます。
 なお今回は、展示会場内に設けた特設会場で開催することで、講演と出展企業・研究機関とのリンクを強める試みも行います。

  ②MEMS協議会フォーラム (主催:マイクロマシンセンター/MEMS協議会)
 MEMS協議会の諸活動の情報発信・意見交換の場として、MEMS産業発展のための産業基盤の構築、産学連携によるMEMS技術基盤構築・展開の観点から、MEMS協議会及びアフィリエートメンバー(地域クラスター、公設試、アカデミア)の活動状況を紹介し、MEMS関連産業の拡大・発展のための課題の共通認識を深めることを目的として開催します。
 今年のMEMS協議会フォーラムのセッション構成は、MEMS協議会活動から、(1)調査研究会での調査報告(技術・産業動向調査)、国際標準化活動についてご紹介、(2)MEMS開発のためのインフラ整備活動としてのMEMSファンドリーネットワーク、MemsONE、 MEMSPediaのご紹介、(3)MEMS産業拡大の原動力となる人材育成の取り組み、及びMEMS協議会のアフィリエートである地域クラスター、公設試から、地域のMEMS産業基盤強化についての取り組み状況についてご紹介いたします。
    
  ③産学連携ワークショップ (主催:マイクロマシンセンター/MEMS協議会)
 MEMS協議会の産学連携活動の一環として、MEMS協議会のアカデミア・公設試アフィリエートから、第20回マイクロマシン/MEMS展での展示内容と併せて、マイクロマシン・MEMSの最新の研究内容をご紹介いたします。
   ・東北大学大学院 江刺・小野・田中研究室  ・九州工業大学 安田研究室
   ・名古屋大学大学院 生田研究室  ・立命館大学ナノマシンシステム技術研究センター
   ・神奈川県産業技術センター      ・MEMSパークコンソーシアム
   ・SRIインターナショナル先端自動制御技術センター

  ④MEMS実装・パッケージングフォーラム
     (主催:マイクロマシンセンター/MEMS協議会  共催:溶接学会マイクロ接合委員会)
  「マイクロナノ2009」の同時開催イベントの新しい切り口として、MEMS技術の中でも現在注目を浴びている「実装・パッケージング」に特化したセミナーを行ないます。(講演者:敬称略)
   ・立命館大学 立命館グローバル・イノベーション研究機構  杉山進 教授
       (内容検討中)
   ・大阪大学大学院 藤本公三教授
       (電子デバイス実装の展開と今後の動向)
   ・パナソニック電工㈱微細プロセス開発センター 久保雅男 
       (ウェハレベルパッケージング技術とデバイスへの応用)
   ・オリンパス㈱研究開発センター精密技術開発本部 MEMS開発部 太田亮 
      (内容検討中)
   ・㈱東芝生産技術センター 実装技術研究センター  小幡進
      (RF-MEMS対応のインライン・ウェハレベルパッケージング技術開発(仮))
   ・大阪大学大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻  西山宏昭 助教
      (非線形リソグラフィを用いた立体基板上へのパターニング技術)

  ⑤BEANSプロジェクトセミナー
     (主催:技術研究組合BEANS研究所  共催:マイクロマシンセンター)
 平成20年度から5年間の計画でスタートしました「異分野融合型次世代デバイス製造技術開発プロジェクト (BEANSプロジェクト)」の概要と、BEANSプロジェクトが目指す革新的次世代デバイス創出に必要な基盤的プロセス技術の展望についてご紹介いたします。

  ⑥日独マイクロナノ・ビジネスフォーラム
     (主催:IVAMマイクロテクノロジーネットワーク  共催:マイクロマシンセンター/MEMS協議会)
  ドイツNRW(ノルトライン・ヴェストファーレン)州に拠点を置く「IVAMマイクロテクノロジーネットワーク」の主催により、ヨーロッパを中心としたiVAM会員企業の技術・製品をご紹介するとともに、IVAM会員企業と日本の企業とのビジネスマッチングの機会を提供いたします。

  ⑦ファインMEMSプロジェクト成果発表会 (主催:NEDO技術開発機構)
  平成20年度に終了した「高集積・複合MEMS製造技術開発プロジェクト(ファインMEMSプロジェクト)」(平成18年度~平成20年度)の全研究開発成果として、4つの開発カテゴリー(MEMS/ナノ機能の複合、MEMS/半導体の一体形成、MEMS/MEMSの高集積化、知識データベースの整備)と、ファインMEMSシステム化設計プラットフォームの開発の成果をご紹介いたします。

5 アフィリエート関係のイベント

●FAIS((財)北九州産業学術推進機構産学連携センター)関連イベント
 第79回産学交流サロン(ひびきのサロン)
   「第2回ミクストシグナルLSIの回路、設計技術研究会」
    ~知的クラスター創成事業の研究紹介とその展開に向けて~
 期 日:平成21年6月10日(水)15:00~19:00 
 主 催:財団法人北九州産業学術推進機構
 会 場:北九州学術研究都市 産学連携センター(北九州市若松区ひびきの2-1)
 参加費:無料(交流会は1,000円必要 ただし「ひびきの会」会員は無料)   
 内 容:
  ○研究テーマ発表(15:00~17:30)
  【研究発表】
   「ディジタル社会でのアナログ回路技術」
   /新日本無線(株) 北九州デザインセンター 
                      センター長  藤原 宗 氏 (予定)
   「システムLSI用電源回路の課題」
   /早稲田大学大学院 生産情報システム研究科 教授  吉原 務 氏
   「超低消費電力基準電圧電流発生回路」
   /早稲田大学大学院 生産情報システム研究科 教授  井上 靖秋 氏
  ○交流会&フリーディスカッション(17:30~19:00)
 
   ※内容詳細はこちら↓
     http://www.kq-ec.net/iac/salon/index.html?eid=00037
   【お問い合わせ】
    (財)北九州産業学術推進機構 産学連携センター
     TEL:093-695-3006 FAX:093-695-3018 





1 経済政策動向

■月例経済報告(4月17日)
 4月の月例経済報告では景気の基調判断について、「景気は、急速な悪化が続いており、厳しい状況にある。先行きについては、当面、悪化が続くとみられるものの、在庫調整が進展するにつれ、悪化のテンポが緩やかになっていくことが期待される。
 ただし、生産活動が極めて低い水準にあることなどから、雇用の大幅な調整が引き続き懸念される。加えて、世界的な金融危機の深刻化や世界景気の一層の下振れ懸念など、景気をさらに下押しするリスクが存在することに留意する必要がある。」としています。
 政府は、政府は、当面は「景気対策」、中期的には「財政再建」、中長期的には「改革による経済成長」という3段階で、経済財政政策を進めることとしており、当面、景気対策を最優先で進めるため、総額75兆円程度の経済対策を着実に実施し、加えて、①景気の底割れを絶対に防ぐ、②雇用を確保し、国民の痛みを軽減する、③未来の成長力強化につなげることを目的として、4月10日、国費15.4兆円程度、事業費56.8兆円程度の「経済危機対策」を取りまとめました。これらの対策により、景気を下支えする効果が期待されます。日本銀行は、3月18日、長期国債の買入れの増額を決定しました。
 詳しくは以下の資料をご参照ください。
   ○ 月例経済報告関係資料
    http://www5.cao.go.jp/keizai3/2009/0417getsurei/main.pdf 
   
■経済産業省の主な経済指標(鉱工業指数調査 2009年4月分速報 2009年4月30日)
 経済産業省は、商鉱工業及びサービス業など幅広い分野にわたって統計調査を実施しており、それらの調査・分析結果について取りまとめた統計をホームページ上に公表しています。これは鉱工業製品を生産する国内の事業所における生産、出荷、在庫に係る諸活動、製造工業の設備の稼働状況、各種設備の生産能力の動向、生産の先行き2ヶ月の予測の把握を行うものです。概要は以下の通りです。
―停滞する鉱工業生産―
 ・今月は、生産、出荷が上昇、在庫、在庫率は低下であった。
  製造工業生産予測調査によると、4月、5月とも上昇を予測している。
 ・総じてみれば、生産は停滞している。
  3月の生産・出荷・在庫動向
1. 生産
 3月の生産は、前月比1.6%の上昇と6か月ぶりの上昇(前年同月比は▲34.2%の低下)となり、指数水準は70.6(季節調整済)となった。生産の上昇に寄与した業種は、電子部品・デバイス工業、一般機械工業、電気機械工業等であった。品目別にみると、蒸気タービン部品、普通乗用車、モス型半導体集積回路(ロジック)の順に上昇に寄与している。
2. 出荷
 3月の出荷は、前月比1.4%の上昇と6か月ぶりの上昇(前年同月比は▲32.4%の低下)となり、指数水準は73.0(季節調整済)となった。出荷の上昇に寄与した業種は、電子部品・デバイス工業、一般機械工業、化学工業(除.医薬品)等であった。
3. 在庫
 3月の在庫は、前月比▲3.3%の低下と3か月連続の低下(前年同月比は▲4.9%の低下)となり、指数水準は100.1(季節調整済)となった。在庫の低下に寄与した業種は、輸送機械工業、化学工業、情報通信機械工業等であった。
 3月の在庫率は、前月比▲4.9%の低下と6か月ぶりの低下(前年同月比は45.2%の上昇)となり、指数水準は150.7(季節調整済)となった。
製造工業生産予測調査
 製造工業生産予測調査によると、4月は前月比4.3%の上昇、5月は同6.1%の上昇であった。4月の上昇は、化学工業、電子部品・デバイス工業、輸送機械工業等により、5月の上昇は、輸送機械工業、鉄鋼業、電子部品・デバイス工業等による。3月の実現率は0.3%、4月の予測修正率は1.5%となった。
http://www.meti.go.jp/statistics/tyo/iip/result-1.html
    鉱工業指数
http://www.meti.go.jp/statistics/tyo/iip/result-2.html
  
 

2 産業技術政策動向

■総合科学会議の動向
 総合科学技術会議は、平成21年5月8日(金)に開催した「分野別推進総合PT ナノテクノロジー・材料PT」の配布資料を公開しました。(5月18日)
 資料はこちらをご覧ください。
  http://www8.cao.go.jp/cstp/project/bunyabetu2006/nano/11kai/haihu11.html

■平成21年度産業技術関連予算の概要
 経済産業省の産業技術予算のうち、「異分野融合型次世代デバイス製造技術開発」については、NEDO運営交付金472億円の内数として認められています。
  http://www.meti.go.jp/press/20081224001/20081224001-5.pdf

■イノベーション創出を取り巻く関連政策動向
 「今月号はお休みします。」

■NEDO産業技術政策関連
○NEDO海外レポート(最新号のご紹介)
    1042号 - 1平成21年4月22日 再生可能エネルギー特集(1)
 1. 風力エネルギー・バロメータ2009 年(EU)
 2. カナダの風力発電の現状および将来見通し
 3. 洋上風力発電で再興したブレーマーハーフェン(ドイツ)
 4. 米国及び世界の2008 年の太陽エネルギー普及は記録的ペースに
 5. 米国の太陽光発電システム設置コスト(1998~2007 年)分析レポート
 6. 連邦エネルギー規制委員会がスマートグリッド基準策定を提案(米国)
 7. 再生可能エネルギー利用見通し、および潮力発電導入事例(英国)
 詳細は以下を参照してください。
  http://www.nedo.go.jp/kankobutsu/report/1043/index.html
 



1 平成21年度第1回運営委員会・理事会・評議員会及びMEMS協議会の開催案内

 平成21年度第1回運営委員会が6月10日(於:MMCテクノサロン)に開催されます。また、運営委員会で審議されます平成20年度事業報告及び収支決算報告等の議題については、その後6月12日(金)開催予定の第1回通常理事会、15日(月)開催予定の第1回評議員会に諮られます。なお、6月12日はMMCテクノサロンにおいてMEMS協議会関係の委員会も開催されます。
 詳細は以下のとおりです。

 第1回運営委員会
    開催日 6月10日(水)  11:00~12:00
    場 所 (於:MMCテクノサロン)(電話03-6383-1794)

 第1回通常理事会
    開催日 6月12日(金)  14:00~15:00
    場 所 (於:MMCテクノサロン)(電話03-6383-1794)

 MEMS協議会推進委員会
    開催日 6月12日(金) 15:30~17:00
    場 所 (於:MMCテクノサロン)(電話03-6383-1794)

 MEMS協議会メンバーによる交流会
    開催日 6月12日(金) 17:15~19:00
    場 所 レストランあべにう<テクノサロン傍> (電話03-5687-5340)

 第1回評議員会
    開催日 6月15日(月)  13:15~14:15
    場 所 ((於:MMC会議室)(電話03-5835-1870)
  

2 財団法人 マイクロマシンセンターの人事異動

 平成21年5月1日付
  (氏名)         (新)              (旧)
   原田  武       普及促進部長         株式会社日立製作所 

3 経済産業省の人事異動(関係先抜粋)

 平成21年5月18日付
  (氏名)         (新)                (旧)
   加賀 義弘     原子力安全保安院        製造産業局 産業機械課 技術係長
               企画調整課危機管理一係長
   木下 裕絵     製造産業局 産業機械課経  済産業政策局産業人材政策室
               技術係長

4 COOL BIZの実施

 6月の衣替えに合わせて、例年通り当センターおよび当研究所では6月1日から9月末の間、COOL BIZを実施致します。当センターへは気楽な服装でお越し下さい。
(当財団およびBEANS研究所はCOOL BIZ賛同団体です。)
 

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