1 MEMS協議会・交流会の開催(11月8日)
11月8日(金)17:15から霞ヶ関商工会館において、MEMS協議会の諸活動の理解を深め、MEMS協議会メンバーの相互交流が出来る場として、MEMS協議会発足後初めての「MEMS協議会メンバー交流会」が行われました。
このメンバー交流会には、来賓として、経済産業省製造産業局産業機械課、NEDO技術開発機構の方々をお迎えし、MEMS協議会正メンバー企業、アソシエートメンバー企業、MEMS協議会フェロー、MEMS協議会アドバイザーから60名のご参加がありました。
開催にあたってMEMS協議会の野間口会長から、MEMS協議会のメンバー数が、MEMS協議会が発足したときの総数143メンバーから現在では総数が183メンバーになっていること、この交流会の前に開催された「平成19年度第2回MEMS協議会推進委員会(MEMS懇話会)で東京大学藤田博之教授(MEMS協議会副会長)がお話しされた「MEMS技術動向」の紹介と現在プロジェクト化が検討されているBEANSプロジェクトの状況、MEMS懇話会での意見交換の内容の紹介を含めた開会の挨拶、MEMS協議会唐木副会長の乾杯の音頭の後、交流・懇談を行いました。
野間口会長の開会の挨拶
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メンバー交流風景
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交流会に参加された方々からは、メンバー同士の情報交流はMEMS協議会のホームページやメーリングリスト(マイクロナノネット)を通してできるようになってはいますが、ネット上の交流だけでなく、企業メンバーの方々が直接、膝を突き合わせて交流できる機会も必要との多数のご意見をいただきました。事務局では、このようなMEMS協議会メンバー交流会を、これから毎年行う予定です。
2 第13回マイクロナノ先端技術交流会の開催(11月9日)
第13回マイクロナノ先端技術交流会が東京工業大学の秦誠一准教授、豊橋技術科学大学の石田誠教授を講師にお迎えして開催されました。
参加者は22名で、活発な質疑がなされました。
講演内容は次のとおりです。
①東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター共同研究機構物質系分野 秦 誠一 准教授
講演内容:「アモルファス合金による微細構造・MEMSの実現」
シリコン以外の新素材として,薄膜金属ガラスを中心とした薄膜アモルファス合金を用いた微細構造やMEMSの実現と、用途に応じた材料の最適化・探索手法について。
②豊橋技術科学大学 電気・電子工学系 石田 誠 教授
講演内容:「集積回路融合による高機能センサ/ MEMS 」
21世紀COE「インテリジェントヒューマンセンシ ング」などで行ってきたスマートセンサチップのいくつかの紹介と 、既存のセンサとICの単なる融合ではなく、新たなセンサ、機能、性能の向上が期
待できる高機能センサ/MEMSについて。
東京工業大学 秦 誠一 准教授 |
豊橋技術科学大学 石田 誠 教授 |
質疑応答風景 |
技術相談・交流会風景 |
講演後17:15から講師の石田誠教授、秦誠一准教授を囲んだ技術相談・交流会が行われ、和やかなうちに閉会いたしました。
3 ICMAN2007報告(10月18日~20日)
中国で初めてのMEMSを中心とした学会であるMEMS&NEMS学会が発足したのを契機に、MEMSの研究開発と産業化についてのワークショップ The
1st International Workshop on Innovation and Commercialization of Micro
& Nanotechnology(ICMAN2007)が中国江蘇省蘇州市で開催されました。
このワークショップのChairをマイクロマシンサミットの中国代表である清華大学Zhou教授が務められ、またCo-ChairをMEMS協議会アドバイザーで東北大学江刺先生が務められた関係もあり、マイクロマシンセンターも参加し、日本のMEMS技術戦略マップを軸とした産学官のMEMS産業化での連携について発表を行いました。
ワークショップはラウンドテーブルで意見交換するという形を取り、中国を中心に欧米アジア各国から80名が参加、日本からは江刺先生をはじめ、住友精密工業、東京エレクトロン、メムス・コア、日経BP、MEMSパークコンソーシアムから総勢9名が参加しました。
イノベーションテクノロジー、商業化、投資&商業化の3つのセッションに分かれ合計30件の講演と中国MEMSファンドリーの立ち上げに関するディスカッションが行われました。日本からはイノベーションテクノロジーセッションで江刺先生、メムス・コア 柳沢様が、商業化セッションでは住友精密工業 神永様、東京エレクトロン 円城寺様、マイクロマシンセンター 安達が、投資&商業化セッションでメムスパークコンソーシアム 戸津様の計6件の講演がありました。
・参加者 : 80名
-中 国 : 53名
-米 国 : 10名
-日 本 : 9名
-フランス : 3名
-ベルギー : 2名
-フィンランド : 1名
-台 湾 : 1名
-ベトナム : 1名
・発表者 : 30名
ー中 国 : 11名
ー米 国 : 7名
-日 本 : 6名
-フランス : 2名
-フィンランド : 1名
-台 湾 : 1名
-ベトナム : 1名
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ICMANを通じ得られた情報は以下の通りです。
・研究開発の中心は清華大学、北京大学、SIMIT、上海交通大学である。
・研究の中心は計測評価からデバイス、特にセンサ開発にシフトしている。
・MEMSファブはSIMIT(1,600㎡)、北京大学(900㎡)が研究開発向けのファンドリーとして機能している。
・西北工業大学(西安)も研究開発向けファンドリーを志向している。
・商業ファンドリーのビジネスを志向しているが推進できていない。
・ICMANは大学・企業に加え、中央・地方の両政府の関心も強く、中国全体の状況を知るには良い機会である。
・MEMS企業はほとんどが欧米からの帰国組、欧米資本組であり、純粋な中国発のMEMS企業はまだできていない、または成功していない。
尚、次回ICMAN2008は西安(中国航空宇宙産業の中心)で開催予定です
ICMAN2007開会の様子
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東北大学江刺教授の開会の挨拶
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4 中国のMEMS研究機関調査報告 ICMAN2007への参加前、中国のMEMS研究動向を調査する目的で、北京の清華大学
、中国科学院半導体研究所、上海の中国科学院SIMIT(上海マイクロシステム情報通信研究所)を訪問しました。
◆清華大学:Zhou教授研究室&ナノセンター
Zhou教授(写真右から4人目)はICMAN2007の記事で述べましたが、マイクロマシンサミットの中国代表で、今回のICMANのチェアーを務める中国MEMSの父といわれています。
研究分野は計測・評価技術開発が中心で、デバイス開発は他の大学、企業と共同で推進している。例えば医薬品を霧状にし、吸引するデバイスを米国HH&ZZ社と共同開発している。
ナノセンターは台湾の実業家FOX Conn氏寄付金(約50億円)を活用し設立されたセンター。CNTの合成、ウェハー上のCNTからファイバーの紡糸の研究が興味深いテーマであった。
◆中国科学院 半導体研究所
半導体研究所は1956年に設立され、2004年には国家戦略にのっとり1,700㎡のクリーンルームや実験室、設備等を導入している注力分野は1.ナノスケール量子デバイス、2.ハイスピードフォトニクス、3.ハイブリッドマイクロ-ナノ集積化デバイス、4.受動・能動型光エレクトロニクス、5.GaN、及びSiC集積化デバイス、6.MEMS & NEMS、7.マイクロエレクトロニクス&光エレクトロニクスのです。化合物半導体の研究が充実しており、MBやMOCVDで半導体レーザー等のデバイス開発を推進しています。
MEMSではYang教授(写真右端手前)が中心となり2人の教授と博士課程の学生を加え10名程度のチームでSiCのMEMSの研究を推進しています。特にSiCが高ヤング率であることに着目し、高周波のResonator研究を進めています。
◆中国科学院 SIMIT(Shanghai Institute of Microsystems & Information Technology)
SIMITは1928年金属材料の研究所として創設された歴史のある研究所。その後セラミックス研究所となり、現在はマイクロシステムの研究開発を行う中国MEMS研究の一大拠点です。
中国最大のMEMSファブを有し、1,600㎡のクリーンルームにFront-End, Back-End, 耐環境試験を含む4インチウェハーのフルラインを有します。研究開発向けの試作も受注しており、現在ファンドリーの立ち上げを模索中です。
同じファシリティをBCD半導体社と利用しており24時間のメンテナンス体制で進められているワイヤレスセンサネットワークの研究開発に注力し、現在2010年の上海万博をターゲットにシステム開発を進めている。Electronic
Fenceと呼ぶエリア内の入退出管理や異常管理のセキュリティシステムの構築を目指しています。研究リーダーはXinXin Li教授(写真左から4人目)総勢40名ほどの研究者がMEMS研究開発に従事しています。
5 古田一吉氏(セイコーインスツル株式会社)国際標準化貢献表彰受賞
セイコーインスツル株式会社の古田一吉氏が経済産業省の平成19年度国際標準化貢献者表彰(産業技術環境局長表彰)を受賞しました。
本表彰は、平成18年11月に経済産業省にて策定、公表された「国際標準化戦略目標」などを受け、国際標準化に率先して取り組み、貢献が顕著な個人を顕彰するため、本年度より制定されたものです。
古田氏は、マイクロマシンセンターの標準化事業委員会等でMEMSの標準化を推進。マイクロマシンに関するNEDOプロジェクトにも参加して研究開発と一体となった標準化活動を進めるとともに、IEC/TC 47(半導体デバイス)にも積極的に参画するなど、国際標準化活動の強化に貢献。また、ISO/TC 229(ナノテクノロジー)における計測等に関する国際標準化活動に我が国の代表者として積極的に参画し、日本主導の国際規格整備を進めました。これらの貢献が認められ、今回の受賞となりました。授賞式は、10月15日虎ノ門パストラルホテルにて行われました。
1 MemsONEβ版講習会の開催案内
MEMS用設計・解析支援システム開発プロジェクトが生み出したソフトウェア「MemsONEβ版」の頒布を6月初旬より開始致しました。MemsONEを日本国内に広く普及させるためには、操作手順や解析の技術的なユーザ支援が不可欠です。このため、複数のPCにMemsONEβ版をインストールした環境を用意し、実際にPC上でMemsONEβ版を使ってGUI操作や解析手順を中心に指導を行います。この講習会を実習講座と称し、基本コースと応用コースの2コースを用意しています。開催期間は7月から来年1月迄で、期間の前半は基本コースを、後半は応用コースを予定しています。
○基本コース: フレームワーク操作と解析ソフトの利用方法を指導
○応用コース: 一通り使いこなせる人を対象に解析ソフトの設計・研究に有用な活用方法を指導
この実習講座は、東京大学および京都大学のご協力により実施しています。開催は、関東(東京大学本郷キャンパス)で6回、関西(京都大学吉田キャンパス)で3回を予定しています。
<実習講座の開催月>
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7月 |
8月 |
9月 |
10月 |
11月 |
12月 |
1月 |
関東(東京大学) |
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8/22
基本 |
9/14
基本 |
10/19
応用 |
11/16
基本 |
12/12
応用 |
1/18
応用 |
関西(京都大学) |
7/19
基本 |
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9/20
基本 |
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11/9
応用 |
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この実習講座の他に、β版を使った解析事例発表セミナーや他の機関で開催される講習会内でも積極的に開催していく予定です。なお、実習講座は有料ですが、他のセミナーや講習会は無料です。
ユーザの方々には、MemsONEひろば「http://www.mmc.or.jp/mems-one/」の“講習会案内”から、講習会に関する情報を逐次ご案内致します。多くの方々の参加をお待ち致すと共に、この講習会の実施により、MemsONEユーザが拡大することを期待しています。
2 第10回MEMS講習会の開催(2008年1月21日)
当センターファンドリーサービス産業委員会では、MEMS産業の裾野を広げ、その発展を促進するためにMEMS講習会を開催してきましたが、次回第10回は2008年1月21日(月)東北地方で始めて、宮城県仙台市で開催いたします。
講習会の内容が決まり次第ご連絡しますが、積極的なご参加をお願い致します。
社団法人日本ロボット工業会/日刊工業新聞社主催による、2007国際ロボット展は下記により開催されます。既に来場者の事前登録/併催事業登録がはじまっており、下記URLより登録が可能です。なお、2007国際ロボット展に特別企画として「マイクロファクトリー実証ゾーン」が設けられます。主催者によると、「本特別ゾーンでは、未来のマイクロファクトリーの実現に向けた様々な機器、製品、ソリューションビジネスを一同に展示・展開される」とのことであります。
財団法人マイクロマシンセンターも本ゾーンにNEDO委託開発事業で開発しましたソフトウェア「MEMS用設計・解析支援システム(MemsONE)」を出展いたします。開発成果でありますMemsONEβ版は、現在多くの関係企業・大学・研究機関等より引き合いがあり、ライセンスを供与する一方、講習会の開催も関東(東京大学)・関西(京都大学)を中心に行っています。 この機会にぜひ、MemsONEβ版をご高覧下さい。
記
会 期 平成19年11月28日(水)~12月1日(土)
会 場 東京ビッグサイト 東ホール
開催時間 午前10時~午後5時(最終日は、午後4時30分まで)
予想来場者 10万人
入場料 一般1,000円 学生・団体(15名以上)500円
但し、事前登録者及び招待券持参者は無料
URL http://www.nikkan.co.jp/eve/07ROBOT/
1.経済政策動向
■月例経済報告(10月22日)
10月の月例報告では、景気の基調判断について「景気は、このところ一部に弱さがみられるものの、回復している。」との判断。先行きについては、企業部門の好調さが持続し、これが家計部門へ波及し国内民間需要に支えられた景気回復が続くと見込まれる。
一方、アメリカ経済や原油価格の動向が内外経済に与える影響等には留意する必要がある。としている。
○月例経済報告関係資料
http://www5.cao.go.jp/keizai3/2007/1022getsurei/main.html
■経済産業省の主な経済指標(10月26日)
経済産業省は、商鉱工業及びサービス業など幅広い分野にわたて統計調査を実施しており、それらの調査・分析結果について取りまとめた統計をホームページ上に公表しています。たとえば、9月の鉱工業生産・出荷・在庫指数速報のでは、
「生産は緩やかながら上昇傾向」として
○今月は、生産、出荷が低下、在庫、在庫率は上昇であった。
○製造工業生産予測調査によると、10月上昇の後、11月は低下を予測している。
○総じてみれば、生産は緩やかながら上昇傾向にある。
と分析している。
鉱工業指数: http://www.meti.go.jp/statistics/tyo/iip/result-1.html
統計(新着情報): http://www.meti.go.jp/statistics/index.html
■平成20年度経済産業政策の重点
経済産業省は、8月24日に平成20年度 経済産業政策の重点(平成20年度経済産業省概算要求の概要)を公表した。その中で平成20年度概算要求については、わが国経済の持続的な成長を図る上で、緊急に取り組むべき、「地域・中小企業の底上げ」、「安全・安心の確保と高信頼性産業群の創出」、「地球環境対策」に重点をおいて一般会計全体として1兆1,938億円を要求。又、エネルギー対策特別会計については、8,241億円を要求。としている。
http://www.meti.go.jp/topic/data/070824-1.pdf
■平成20年度産業技術関連予算の概算要求概要
経済産業省産業技術環境局は、上記経済産業政策の重点課題に対応した技術関連予算の要求概要を公表した。その中で、イノベーション創出メカニズムの改革につながるプロジェクトとして、「異分野融合型次世代デバイス製造技術開発」16億円(一般会計)が新規に要求された。この技術開発は、イノベーション25を実現するための革新的未来デバイスとして期待されている。
http://www.meti.go.jp/topic/data/070824-8.pdf
〔注〕概算要求は、予定では12月はじめ頃まで財務省との折衝を経て12月末までに内示・政府原案閣議決 定が行われ、年明けの通常国会で審議のうえ成立のはこびとなる。
■イノベーション創出を取り巻く関連政策動向
1.京都議定書達成のための業界の自主行動計画を上積み
京都議定書の目標達成のために業界はCO2削減の自主行動計画を策定しているが、10月11日に開かれた中央環境審議会地球環境部会と産業構造審議会環境部会地球環境小委員会の合同会合において、従来の数字が上積みされた。
自主行動計画の上積みは、化学、紙パ、電線等の13業種において表明された。既存の数値と今回の上積みを合計しても、6%の削減達成のためには、さらに1.5%~2.7%の削減が必要となるとされている。
自主行動計画が未達成の業界は、不足分を他国からの排出権購入で補うことになる。
経済産業省、環境省は今回の業界のさらなるCO2削減自主計画は、政府の削減計画に大きく貢献するものと評価している。
また、今回の会合では、日本のエネルギー使用の約4割を占める産業部門の削減が議論されたわけであるが、約6割を占めるこれ以外の民生や運輸部門の削減も必要となる。民生部門では、家庭、病院、学校といった分野での削減が考えられるが、これらの分野では、削減の強制力もないので相当の困難が予想されている。 参考: http://www.env.go.jp/council/06earth/y060-64.html
2.「模倣品・海賊版拡散防止条約(仮称)」構想について
経済産業省は、10月23日、「模倣品・海賊版拡散防止条約(仮称)」構想について発表した。
模倣品・海賊版の拡散は、企業利益の侵害、イノベーションの減退、消費者の健康や安全を脅かす、犯罪組織に対する資金源になる、等の国民生活や産業経済に対する悪影響があると懸念されている。
同構想は、知的財産権の保護に関心高い国々と連携をとり、年内に集中的な協議を開始することとしている。同構想では、知的財産権の執行に係る強力な法的規律と、その執行の強化及び国際協力を柱とし、国際的な法的枠組みの構築を目指していくことを目的としている。
平成17年のサミットにおいて、当時の小泉総理から模倣品・海賊版の拡散防止に向けた法的枠組みの必要性を提唱した。この後、日本はこの枠組みの実現に向け各国に働きかけを行ってきた。その結果、サミットから3年後に関係国間で、このような内容の条約に関し、年内に集中的な協議を開始していくことが確認され、今般の発表を日米欧同時に行うことになったものである。
参考:http://www.meti.go.jp/press/20071023001/20071023001.html
3.日独間における特許審査ハイウエイの試行開始
10月19日、日独特許庁長官会合において、日独特許審査ハイウエイの試行を開始することで合意した。
「特許審査ハイウエイ」とは、第1国の特許庁で特許可能と判断された出願については、第2国の特許庁において簡易な手続きにより早期審査を受けることができるようにするものである。これにより、海外での早期権利化と、権利取得コスト・審査コストの低減及び審査の質の向上を図ることができることとなる。
国際的な特許出願が増加する中で、各国は先行技術調査や審査の結果を相互に利用して国際的なワークシェアリングを進めることで、審査の効率化、迅速な権利化の実現を目指しているが、今般の日独間の試行もこの観点から合意されたものである。
日独の間の特許ハイウエイは、2008年3月からの試行開始に向けて調整を行うとしている。
既に、日本は米国、韓国、英国との間で試行を開始しており、今回の合意で4カ国目になる。特許庁は、今後、欧州特許庁、デンマーク、カナダ、オーストラリア等との間においてもハイウエイの拡大を目指すべく交渉を進めていくとしている。
参考:http://www.meti.go.jp/press/20071019001/20071019001.html
4.独占禁止法の改正
公正取引委員会は、10月16日、「独占禁止法の改正等の基本的考え方」を公表した。
独占禁止法については、平成18年1月に既に改正がなされているが、今般はさらなる改正を目指して、その考え方をまとめたものである。
主な改正事項としては、まず、新規参入排除行為等に関して新たに課徴金を新設することが挙げられる。不当廉売等の不公正な取引については、その規制強化を求める声が強いが、今般の改正案では、このような背景から不当廉売に関する規制強化が盛り込まれることとなった。
次に、審判手続きの公正さ及び透明性の確保を図ることとしている。従来から、公正取引委員会が審判機能を持っていることに関し、検事と裁判官が同じでいいかと言う問題意識から、公正取引委員会から切り離してはどうかとの意見があった。今回の案では審判手続きの公正は盛り込まれているものの、この点は不明確であり、今後議論がなされるものと考えられている。
公正取引委員会はこの「基本的考え方」については、各方面からの意見も踏まえ、さらに検討を進め、具体的な改正法律案として取りまとめることとしている。
参考:http://www.jftc.go.jp/pressrelease/07.october/07101601.pdf
2.産業技術政策動向
■総合科学技術会議開催(10/29、9/13)
第70回総合科学技術会議が10月29日に開催され、議事は以下のとおり。
(1)平成20年度概算要求における科学技術関係施策の優先度判定等について
(2)研究開発独立行政法人の在り方について
(3)最近の科学技術の動向
なお、配布された資料については、総合科学技術会議(第70回)議事次第参照
http://www8.cao.go.jp/cstp/siryo/haihu70/haihu-si70.html
〔参考〕
科学技術関係施策の優先度判定等について、下記URLの84ページに「異分野融合型次世代デバイス製造 技術開発プロジェクト」がA評価として掲載されています。また、86ページには「高集積・複合MEMS製造技 術開発プロジェクト」が、高度なMEMSデバイスの早期実用化に向け、着実・効率的に実施すべきであるとし て、掲載されています。
http://www8.cao.go.jp/cstp/siryo/haihu70/siryo1-2-5.pdf
第69回総合科学技術会議が9月13日に「持ち回り開催」され、議事は以下のとおり。
(1)国家的に重要な研究開発の評価
〔配布資料〕総合科学技術会議が実施する国家的に重要な研究開発の評価「最先端・高性能汎用スーパ ーコンピュータの開発利用について(案)
http://www8.cao.go.jp/cstp/siryo/haihu69/haihu-si69.html
■経済産業省の産業技術政策
○産業技術政策の概要(パンフレット)
―技術革新による強靭な経済発展基盤の構築に向けて―
http://www.meti.go.jp/policy/innovation_policy/main_01.files/pamphlet.pdf
○経済産業省の研究開発 「技術戦略マップ2007」
http://www.meti.go.jp/policy/kenkyu_kaihatu/
「技術戦略マップ2007」が平成19年4月に経済産業省から発表になっています。技術戦略マップは、新産 業を創造していくために必要な技術目標や製品・サービスの需要を創造するための方策を示したもの。
■NEDO産業技術政策関連
○NEDO海外レポート1010号 テーマ特集「再生可能エネルギー特集」
風力、バイオマス 2007.10.31
http://www.nedo.go.jp/kankobutsu/report/1010/index.html?nem
○NEDO海外レポート1009号 テーマ特集「ナノテクノロジー」 2007.10.17
http://www.nedo.go.jp/kankobutsu/report/1009/index.html
○NEDO海外レポート1008号 テーマ特集「地球温暖化」 2007.10.3
http://www.nedo.go.jp/kankobutsu/report/1008/index.html
1 創立記念日に伴う休業のお知らせ
今年のマイクロマシンセンターの創立記念日は11月16日(金)となります。当日は休日とするため、事務所は留守になりますのでお知らせ致します。
2 第2回評議員会、第1回臨時理事会の開催
10月19日(月)「平成19年度第2回評議員会」、「平成19年度第1回臨時理事会」が書面審議形式で開催されました。
議題、報告事項は、①平成19年度事業計画及び収支予算の一部変更について、②理事の一部変更について、③評議員の一部変更について、④賛助会員の入会についてでした。提案議題は書面審議の結果、全て承認されました。
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