MMC-MIF-BEANS Monthly

[No.2010-11] 2010年11月16日発行


ニ ュ ー ス 目 次  

    1 MIG主催MEMS Executive Congress参加 報告
    2 H22北米MEMS産業動向調査ミッション速報
    3 Gデバイス、クリーンルームの整備進む
    4 MicroTAS2010参加報告
    5 カナダ調査団来訪(2010年10月22日)
    6 MemsONE第4回実習講座(2010年10月22日)
    7 MEMS講習会(2010年10月27日)

    

    1 マイクロナノイノベータ人材育成プログラム関連講習会
    2 MEMSアフリエート関係のイベント


    
1 経済・政策動向トピック


    1 冬季の省エネルギー対策
 
    
  
ニ ュ ー ス 本 文

  

1 MIG主催MEMS Executive Congress参加 報告

 米国MEMS Industry Group主催で、2010年11月3日~11月4日、米国アリゾナ州スコッツデールにて開催されたMEMS Executive Congressに国際交流およびMEMS産業動向調査の一環として参加しました。
 この会議は毎年この時期に開催されているもので、講演やパネルディスカッション、空き時間のインフォーマルな会話を通して、情報交換、人的なネットワークを形成することによってMEMS関連産業のビジネスチャンスを上げることです。研究開発そのものに関するものではなく、事業化をどう促進するかに絞った会議であることが特徴となっています。(詳細は以下を参照ください)
 http://beanspj.cocolog-nifty.com/mems/2010/11/migmems-executi.html

2 H22北米MEMS産業動向調査ミッション速報

 2010年10月31日~11月11日の日程で、北米のMEMS産業動向を把握するという目的で、7つの会社訪問、および米国MEMS Industry Group主催のMEMS Executive Congressに参加しました。
 訪問した会社は、事前に学会や展示会にて注目すべきと判断したものです。技術面、ビジネスモデルの特長、発展の可能性の高い市場に取組んでいる、などを判断基準にしました。(詳細は以下を参照ください)
 http://beanspj.cocolog-nifty.com/mems/2010/11/h22mems-a6dc.html

3 Gデバイス、クリーンルーム整備の進展

 BEANS研究所Gデバイスセンターでは、NEDO(独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構)からの委託により、「高機能センサネットシステムと低環境負荷型プロセスの開発」に取り組んでおり、産総研つくば東事業所に事務所を構えて、研究開発を進めるとともに、センサネットクリーンルームと8インチMEMSラインを建設しています。
 センサネットクリーンルーム(広さ150㎡)は、センサネットシステムによる環境負荷モニタとスマート空調により、クリーン・オン・デマンドの実現を目指す低消費電力クリーンルームです。8インチMEMSラインは、産総研つくば東事業所のクリーンルーム(広さ350㎡)とセンサネットクリーンルーム内に建設中で、ウェハの洗浄、リソグラフィー、拡散、酸化、成膜、エッチングなどの前工程プロセスから、接合実装、デバイスチップ切断、実装用配線などの後工程プロセス、さらに、デバイス表面及び内部の形状評価までカバーする一貫ラインです。前工程プロセス装置は、3次元マイクロ加工からサブハーフミクロン加工まで対応しており、実績あるセンサ等のMEMSから最先端レベルのデバイスの試作が可能です。これまでにクリーンルームはすでに完成し、現在プロセス・評価装置の立ち上げが着々と進んでいます。
完成したセンサネットクリーンルーム
8インチライン装置立上げ風景

4 MicroTAS2010参加報告

 µTAS2010(The 14th International Conference On Miniaturized Systems For Chemistry and Life Sciences) (http://www.microtas10.org/)が2010年10月3日(日)から7日(金)の5日間の日程でオランダ・フローニンゲン(Groningen)市のMartiniplazaにてフローニンゲン大学のProf. Sabeth Verpoorteをチェアマンとして開催されました.「異分野融合型次世代デバイス製造技術開発プロジェクト(BEANSプロジェクト)」における知識データベース整備に係る最新MEMS関連製造技術知識情報収集調査を行うことを目的として本会議へ参加しました.µTAS会議はµTAS(MEMS技術を用いて、チップ上に微小な流路や反応室、混合室を設け、一つのチップもしくはデバイスで血液やDNAをはじめさまざまな液体や気体を分析する生化学分析デバイス)を中心としたプロセスやデバイスの最新技術について議論される国際会議です.(詳細は以下の参照ください)

 http://beanspj.cocolog-nifty.com/tech/2010/11/microtas10-154a.html

5 カナダ調査団来訪(2010年10月22日)

 10月22日、カナダにおけるR&Dプロジェクト推進機関(CMC Microsystems)および国立研究所(NRC)のメンバーがMMCを訪問し、相互の活動紹介および現在の課題などについて意見交換をしました。(詳細は以下を参照してください)
 http://beanspj.cocolog-nifty.com/mems/2010/10/mmc-b52d.html

6 MemsONE第4回実習講座(2010年10月22日)

 平成22年10月22日(金)にMemsONE実習講座の東京第4回を開催しました。今回は「解析コース」で定員3名のところ、4名の参加がありました。この実習講座が今年度の最終回で、東京および大阪ともに全ての予定を終了しました。
 本実習講座は使用者を直接的に支援するために、実際にパソコン上で操作演習を行うもので、「基本操作コース」と「解析コース」の2コースを用意し、東京で各2回、大阪で各1回を開催しました。解析コースでは、受講者が希望する解析機能に絞って集中的に指導する方法を採っています。
 本年度は、東京での全ての講習会において定員以上の参加があり盛況で、成功裏に終了することができました。

第4回東京実習講座「解析コース」の概要
◆開催日時: 平成22年10月22日(金)13:00~17:30
◆開催場所: 日本ユニシス・エクセリューションズ株式会社 本社4F
◆受講者数: 4名
◆実習内容: 1)圧電解析の使用方法に関する概説および演習
       2)光ナノインプリント解析の使用方法に関する概説および演習
       3)弾塑性-電界連成解析の使用方法に関する概説および演習

7 MEMS講習会(2010年10月27日)

 マイクロマシンセンターが主催で例年開催しておりますMEMS講習会(第15回)が10月27日に中央大学駿河台記念館で開催されました。MEMS講習会は本年度より編成されたマイクロナノイノベータ人材育成プログラムの中の先端アプリ講座の一つとして開催することになりました。
 当日の参加者は、講習会の申し込者62名にファンドリー委員、講演者の方を合わせて80名以上を数え、大変盛況で終えることができました。この要因として、昨今の環境問題に対応したテーマを選定したことが、多くの人の関心を呼んだものと考えられます。講演会終了後、懇親会が開催されました。およそ半数以上の方が参加され、情報交換をして頂きました。第16回は2011年2月に名古屋方面で開催する予定です。次回も多くの方に来て頂けますように魅力あるプログラム作りを目指しますので、関心をお持ちになった方は、是非ご参加をお願い致します。
(詳細は以下を参照ください)
 http://beanspj.cocolog-nifty.com/mems/2010/11/post-a601.html





1 マイクロナノイノベータ人材育成プログラム関連の講習会


◆ 商品化推進スキル講座(12月15日)
マイクロナノイノベータ人材育成プログラムにおける商品化推進スキル講座の日程・内容が決まりました。
<日時>2010年12月15日(水)10:00-17:30(以降、懇親会)
<場所>MMCテクノサロン(東京 秋葉原)
<講師>出川通氏(株)テクノインテグレーション代表取締役
 定員20名、受講料:20,000円(資料代、昼食、懇親会費含む)

 教材開発と講師をお願いした出川氏は、MEMSに限らず、自らベンチャー起業、経営も手掛けながら、技術シーズをビジネスにつなげる様々な試みを体系化し、大学における講義、多数の著書出版などによって一般への啓蒙活動をされています。東北大学e-LearningでもMOTの講義を担当されています。詳しくは、MEMS協議会人材育成プログラムホームページ:
   ../../business/innovator/
   にてご確認ください。

2 MEMSアフリエート関係のイベント

◆ The 4th International Workshop on Innovation and Commercialization of Micro & Nanotechnology (ICMAN2010)
日時 : 11月22日(月)~ 24日(水)
場所 : 上海 Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology (SIMIT)
www.icman.com をご覧ください。

◆ 次世代センサ協議会 センサ総合シンポジウム   
日時:2010年11月24 (水) -26日 (金) 10:00 - 17:00
会場:東京ビッグサイト 東ホールセンサエキスポジャパン2010会場内特設会場
参加費:主催会員 10,000円(全セッション申込50,000円) 協賛会員 12,000円
(全セッション申込60,000円) 一般 14,000円(全セッション申込70,000円)
問合先 : 次世代センサ協議会 事務局 大森陽子 Tel. 03-5297-8855
http://www.cnt-inc.co.jp/jisedai/

◆ 「マイクロシステム融合研究開発センターシンポジウム」
日時 : 12月6日(月)
場所 : 仙台サンプラザ
主催 : 東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター

◆ 「第6回フラウンホーファーシンポジウム in SENDAI」
日時 : 12月7日(火)
場所 : 仙台サンプラザ
主催 : 仙台市、フラウンホーファー研究機構、フラウンホーファー日本代表部
後援 : MEMSパークコンソーシアム
問合先 : 仙台市経済局産業創出部産学連携推進課 和田 信也
Tel. 022-214-8245、 E-mail:shinya_wada@city.sendai.jp

◆ 「International Symposium on Microsystem Hetero Integration」
日時 : 2011年2月10日(木)
場所 : 産総研つくば
主催 : 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター、産総研集積マイクロシステム研究センター





 本項は、マイクロマシン/MEMSを取り巻く経済・政策動向のトピックを、いろいろな観点からとらえて発信しています。
 
1.IMFの2010年の経済見通し、上方修正
 IMF(国際通貨基金)は、10月6日、世界経済見通しの修正版を公表しました。
 それによりますと、2010年の世界全体の国内総生産(GDP)の伸びを4.8%と予測しました。また、2011年は4.2%と予測しています。
 前回7月の予測に比べて2010年は0.2%上昇、2011年は0.1%下降しています。
 国別に見ますと、日本の2010年の伸びは2.8%(前回7月比で0.4%上昇)、2011年は1.5%(同0.3%減少)と予測しています。米国は、2010年は2.6%の上昇(同0.7%減少)、2011年は2.3%(同0.6%減少)としています。ユーロ圏は、2010年は1.7%の上昇(同0.7%上昇)、2011年は1.5%(同0.2%上昇)を予測しています。
 中国は、2010年は10.5%の上昇、2011年は9.6%の上昇で前回7月の予想と変化はありません。インドは、2010年は9.7%の上昇(同0.3%上昇)、2011年は8.4%(変化なし)と予測しています。
 金属価格については、過去10年間にわたり平均で年率4%の上昇を示してきました。今後とも、需要が供給に追い付かず、価格は上昇するとみています。
 参考:http://www.imf.org/external/pubs/ft/weo/2010/02/pdf/c1.pdf

2.月例経済報告(10月19日)
 内閣府は、10月19日、月例経済報告を発表しました。
 10月の月例経済報告では景気の基調判断について、「景気は、このところ足踏み状態となっている。また、失業率が高水準にあるなど厳しい状況にある。」としています。基調判断については、09年2月以来、1年8カ月ぶりに下方修正しました。
 「先行きについては、当面、弱めの動きも見られるものの、海外経済の改善や各種の政策の効果などを背景に、景気が持ち直していくことが期待される。一方、海外景気の下振れ懸念や為替レート・株価の変動などにより、景気がさらに下押しされるリスクが存在する。また、デフレの影響や、雇用情勢の悪化懸念が依然残っていることにも注意が必要である」としています。9月に月例報告では為替についても言及していますが、今月も引き続き盛り込んでいます。
 また、「政府は、「新成長戦略」に基づき、日本経済を本格的な回復軌道に乗せるとともにデフレを終結させるよう政策運営を行う。政府はデフレからの脱却を喫緊の課題と位置づけ、日本銀行と一体となって、強力かつ総合的な政策努力を行う。」としています。
 参考:http://www5.cao.go.jp/keizai3/2010/1019getsurei/main.pdf

3.22年度上半期の貿易黒字は前年比83%増
 財務省は、10月25日、2010年度上半期(4~9月)の貿易統計を発表しました。
 上半期の貿易黒字は前年同期比で83.0%増の3.4兆円となりました。この内、輸出額は25.0%増の34.1兆円、輸入額は20.8%増の30.7兆円となっています。半期ベースの黒字は3期連続となりました。
 輸出の増が大きかったものは、自動車(+37%)、鉄鋼(+37%)、自動車部品(+30%)等となっています。また、輸入の伸びが大きかったものは、原粗油(+20%)、液化天然ガス(+44%)、非鉄金属(+77%)等となっています。
 また、同日に9月の貿易統計(速報)も発表しました。9月の貿易黒字は、前年同月比で54%増の7,970億円でした。貿易黒字が前年同月を上回るのは2カ月ぶりとなります。
 参考:http://www.customs.go.jp/toukei/shinbun/trade-st/gaiyo2010_4-9.pdf
   http://www.customs.go.jp/toukei/shinbun/trade-st/gaiyo2010_09.pdf

4.平成21年度は携帯電話の割合が増加
 総務省は、10月19日、「平成21年度、トラヒックからみた通信利用状況」(速報)を発表しました。
 固定系(加入電話・ISDN)全体では、4,334万契約で対前年度比8.4%減少しました。IP電話の利用番号数は、2,315万件で対前年度比14.5%増加しています。また、移動系(携帯電話・PHS)全体では、1億1,630万契約で対前年比3.8%増加しています。この内、携帯電話は1億1,218万契約で対前年度比4.4%増加しています。PHSの契約数は減少しています。
 通信回数の発信種類別比率は、固定系発信が38.9%、移動系発信が52.2%、IP電話発信が8.9%で、固定系が占める割合が低下し、IP電話及び移動系が占める割合が増加しています。
 参考:http://www.soumu.go.jp/main_content/000085357.pdf


5.経済産業省の主な経済指標
(鉱工業指標調査 2010年9月速報分 2010年10月29日)
 経済産業省は、商鉱工業及びサービス業など幅広い分野にわたって統計調査を実施しており、それらの調査分析結果について取りまとめた統計をホームページ上に公表しています。これは鉱工業製品を生産する国内の事業所における生産、出荷、在庫に係る諸活動、製造工業の設備の稼働状況、各種設備の生産能力の動向、生産の先行き2カ月の予測の把握を行うものです。概要は以下の通りです。
 -生産は弱含み傾向―
 ・今月は、生産、出荷が低下、在庫、在庫率は上昇であった。
 ・製造工業生産予測調査によると、10月低下の後、11月は上昇を予測している。
 ・総じて見れば、生産は弱含み傾向にある。

9月の生産・出荷・在庫動向
(1) 生産
 9月の生産は、前月比▲1.9%の低下と4カ月連続の低下(前年同月比は11.1%の上昇)となり、指数水準は92.5 (季節調整済)となった。生産の低下に寄与した業種は、輸送機器愛工業、電子部品・デバイス工業、その他工業等であった。品目別にみると、普通乗用車、モス型半導体集積回路(ロジック)、太陽電池モジュールの順に低下に寄与している。
(2) 出荷
 9月の出荷は、前月比▲0.7の低下と3カ月連続の低下 (前年同月比は12.3%の上昇)となり、指数水準は95.0 (季節調整済)となった。出荷の低下に寄与した業種は、電子部品・デバイス工業、電気機械工業、鉄鋼業等であった。
(3) 在庫
 9月の在庫は、前月比0.2%の上昇と2カ月連続の上昇(前年同月比は3.5 %の上昇)となり、指数水準は97.7(季節調整済み)となった。在庫の上昇に寄与した業種は、電子部品・デバイス工業、鉄鋼業、輸送機械工業等であった。
 9月の在庫率は、前月比1.3%の上昇と2カ月ぶりの上昇(前年同月比は▲10.0%の低下)となり、指数水準は108.8(季節調整済み)となった。

製造工業生産予測調査
 製造工業生産予測調査によると、10月は前月比▲3.6%の低下、11月は1.7%の上昇であった。10月の低下は、輸送機械工業、電子部品・デバイス工業、情報通信機械工業等により、11月の上昇は、一般機械工業、電子部品・デバイス工業、輸送機械工業等による。9月の実現率は▲2.0%、9月の予測修正率は▲2.3%となった。
 参考:http://www.meti.go.jp/statistics/tyo/iip/result-1.html

6.9月の完全失業率は改善
 総務省は、10月29日、9月分の完全失業率(速報、季節調整値))を発表しました。
 9月の完全失業率は5.0%で、前月比0.1%下がりました。これで3カ月連続の減少となります。特に、医療福祉分野での就業者数が増加したことが主な要因です。そのほか、情報通信業の雇用者数も増加しました。逆に、卸売・小売業、建設業等の就業者数は減少しています。
 また、同日、厚生労働省は9月分の有効求人倍率を発表しました。9月の有効求人倍率(季節調整値)は0.55倍となり、前月を0.01ポイント上回りました。これで、5カ月連続の上昇となります。
 参考:http://www.stat.go.jp/data/roudou/sokuhou/tsuki/pdf/05400.pdf
  http://www.mhlw.go.jp/stf/houdou/2r9852000000uob8.html

7.日銀の物価上昇予想、12年度は0.6%
 日銀は、10月29日、日本経済の見通しを示す「経済・物価情勢の展望(展望レポート)」を取りまとめました。
 2012年度の予想をはじめて公表しましたが、12年度の実質GDPは2.1%の上昇、消費者物価指数(生鮮食料品を除く)は0.6%の上昇としています。
 また、7月時点での見通しを修正しています。2010年の実質GDPは2.1%の上昇(前回7月の予想より▲0.5%の低下)、消費者物価指数(生鮮食料品を除く)は▲0.4%の低下(前回予想と変わらず)です。2011年度につきましては、実質GDPは1.8%の増加(前回7月の予想に比べ▲0.1%の低下)、消費者物価指数は0.1%(変わらず)としています。
 参考:http://www.boj.or.jp/type/release/teiki/tenbo/gor1010b.pdf

8.OECD日米欧の経済見通しを改定
 OECD(経済協力開発機構)は、11月3日、日米欧の経済見通しを改定しました。
 2010年の実質経済成長率について、日本が2.75~3.25%、米国が2.5~3%、ユーロ圏が1.5~2%と予測しました。前回の5月時点の予測では、日本の成長率は3%と予測していたので、今回の予測もその範囲内となっています。一方、米国は5月時点の3.2%の予測から引き下げ、ユーロ圏は前回予測の1.2%から引き上げました。
 日本の成長率について、2011年は1.5~2%、2012年は1~1.5%としています。また、2011年の米国の成長率は1.75~2.25%、2012年は2.75~2.25%としています。ユーロ圏の2011年の成長率は1.5~2%、2012年は1.75~2.25%となっています。米国、ユーロ圏とも2011年、2012年の成長率の予測は日本を上回っています。
 参考:http://www.oecd.org/dataoecd/23/23/46311514.pdf

9.2110年度上半期の経常黒字、8.4兆円
 財務省は、11月9日、2010年度上半期(4~9月)の国際収支状況(速報)を発表しました。
 それによりますと、上半期の経常収支は8.4兆円の黒字であり前年同期比で14%増となりました。この内貿易黒字は4兆円であり前年同期比で62%増となっています。一方、輸送、旅行等を含んだサービス収支は0.9兆円の赤字となっています。また、投資収益等を含んだ所得収支は5.7兆円の黒字となりました。
 参考:http://www.mof.go.jp/bpoffice/bpdata/pdf/bpfh10.pdf

10.平成21年度のエネルギー需給実績がまとまる
 経済産業省・資源エネルギー庁は、11月9日、平成21年度(2009年度)のエネルギー需給実績(速報)を公表しました。
 最終エネルギー消費は、2008年度に引き続き景気悪化の影響により、対前年度比で▲2.3%減少しました。(1990年度比では+3.6%) また、エネルギー起源の二酸化炭素排出量は、エネルギー消費の減少を受けて、対前年度比▲5.6%減少しました。(1990年度比では+1.5%)
 エネルギー起源のCO2排出量の内訳を対前年度比で見てみますと、産業部門は▲7.9%の減(1990年度比では▲19.9%の減)、運輸部門は▲2.5%の減(同+5.4%)、業務他部門では▲6.6%の減(同+33.6%)、家庭部門では▲5.5%の減(同+26.9%)等となっています。
 参考:http://www.meti.go.jp/press/20101109001/20101109001.pdf




○冬季の省エネルギー対策
 政府は、11月から3月までの期間において、冬季の省エネルギー対策を促進するため、平成22年10月25日に省エネルギー・省資源対策推進会議省庁連絡会議を開催し、「冬季の省エネルギー対策について」を決定しました。
 冬季は暖房等、エネルギー消費が大きく増加する季節です。暖房中の室温は、原則20℃を徹底し、暖房が過度にならないよう気をつける等の省エネルギー対策を実践しましょう。

 参考:http://www.meti.go.jp/press/20101026001/20101026001.html



 

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