［No.2007-07］ 2007年7月10日発行

１　ファインMEMSシステム化設計プラットフォーム研究開発がスタート

　近年、米国を中心として設計プラットフォームを用いた表面集積化の動きが活発化し、高集積MEMSに関わる製造技術、設計技術の両面を備えたトータルな研究開発により、高集積MEMS製品の成功事例が増加してきています。
　わが国ではNEDO技術開発機構が、MEMS製造技術の飛躍を図るべく昨年より高集積複合MEMS製造技術開発事業（ファインMEMSプロジェクト）をスタートさせましたが、さらに設計技術をも充実させる目的で加速財源として「ファインMEMSシステム化設計プラットフォーム研究開発」を基本計画に新たに追加、MMCとしてこれを受託することになりました。
　内容は、ファインＭＥＭＳに係わるさまざまなデバイスに対応した統一的な設計プラットフォームとしての等価回路モデルの開発を行い、それを蓄積して閲覧できるライブラリを構築するものです。昨年度完了した設計支援システム開発「MEMS-ONEプロジェクト」のプロジェクトリーダ東京大学藤田教授を委員長、香川大学橋口教授を副委員長として開発の詳細内容まで采配をふるって頂き、世界に先駆けて日本発の高集積・複合MEMSに関する統一的設計手法を開発、Webライブラリに集積しわが国産業界に広く公開する予定です。どうか、ご期待ください。

ファインMEMSシステム化設計プラットフォーム研究開発の概要

２　Transducers’07およびフランスMEMS研究機関調査報告

　6月10日から14日までフランス・リヨンのCite Centre de Congresで開催されたThe 14th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems（Transducers’07）に参加し、ファインMEMSの知識データベース整備事業における知識情報の収集を行いました。

会場になったCite　Centre　de　Congre

　この会議は、1981年に米国ボストンで開催されて以来、隔年開催されているものです。
　今回は、最終参加者数（1350名、前回は886名）、投稿アブストラクト数（1552件）ともに過去最高を記録し、この分野が一層発展していることを裏付けました。発表論文数は、口頭発表220件（前回199件）、ポスター422件（前回315件）で、全体の採択率は、40％でした。投稿アブストラクトを地域別に見ると、欧州640件、アジア620件、アメリカ290件となっており、特にアジアからの投稿の増大が目立ちます。内容別に見ると、バイオ関連投稿が最も多く260件と物理センサの230件を凌いでおります。また、化学センサも210件となっており、この分野の研究開発が従来の物理系センサから生物・化学系へシフトしていることを示しております。
　プレナリーでは、カリフォルニア大学のP.A.Pisano教授が“MEMS and Nano Technology for the Handheld, Portable Electronic and the Automotive Markets”, ETH ZurichのC.Hierold教授が”Concepts for Carbon Nanotube Sensors“, 東京大学の北森教授が”Micro and Nano Chemical System on Chip“と題して講演されました。MEMSの応用分野では、自動車と携帯向けセンサが今後も市場を牽引して行くようです。また、ファインMEMSプロジェクトの主要テーマであるCNTのMEMS応用とCMOS/MEMS一体化は、本会議においても最も活発な研究テーマでした。当センターがNEDO委託で推進しておりますファインMEMS知識データベースの既登録事例においてもこれらの分野の事例が多く、今後も益々充実してゆくものと思われます。特に、CNTは、物理センサに留まらず、バイオ、化学センサへの応用にも期待されています。本会議は、次回は、米国・デンバーで開催予定です。

口頭発表会場

ポスターセッション会場

　リヨンでの会議に引き続き、東京大学三田准教授引率のもと、NEDO/浅海主査、東京大/久保田助教、日立中研/鄭研究員とともに、フランス国内の主なファインMEMS研究拠点である３つの研究機関を訪問し、知識データを収集するとともにその研究開発動向を調査いたしました。
　まず、リヨンからバスで1時間ほどの距離に位置するグルノーブルのCEA/LETI （フランス原子力庁/電子・情報技術研究所）を訪問いたしました。ここは、人員1600名でエレクトロニクス最先端の分野全般をカバーし、日本の産総研に匹敵する規模を誇っております。Siの200mmΦと300mmΦウェハ対応ラインを有しており、11,000m2のクリーンルームを運営しています。これらの施設を有効に利用して、Si-LSI、MEMS、ナノテク、バイオの開発を有機的に行っております。特に、産業化を意識した研究体制が組まれており、産官協同が非常に良く機能しています。

LETI（グルノーブル）にて：右から 　　三田先生、久保田先生、浅海主査、 　　　　　鄭日立研究員、MMC五島

　続いて、フランス南部に位置するトｩールーズに移動し、CNRS(フランス国立科学研究センター)のLAAS (Laboratory for Analysis and Architecture of Systems) を訪問いたしました。自動制御に強い研究機関で産総研ともロボット研究で共同研究を行っており、相互に研究者を派遣しているということでした。研究人員は600名で、2,000 m2のクリーンルームを有しており、MEMS開発も全般的に活発です。この研究所の特長は、Si用の旧式のプロセス装置を自らオーバーホールして試作ラインを構築するなど、高いものづくり技術を有していることです。LETIや他の国内研究機関や企業とも連携してMEMS開発を行っております。
　最後に、パリに移動し、IEF (Institute of Fundamental Electronics) を訪問いたしました。IEFは、パリ南部の郊外オルセーに位置し、CNRSとパリ第11大学の共同研究組織です。エレクトロニクス全般の基礎的な分野をカバーしており、教官52名、研究員33名、エンジニア52名、PhD学生70名から成る組織です。GaN, SiGeC等の材料研究、スピントロニクス等磁性分野の研究も盛んですが、MEMSに関しては、Alain Bosseboeuf教授を中心に東大生研、LETI、LAASをはじめ日本企業とも連携して国際的なネットワークを構築しています。本調査を通じて、参加者一同フランスにおける産官学一体となったMEMS開発体制の充実ぶりに感心すると共に、産業化推進や共同利用クリーンルームの運営方法など直接的かつ具体的に研究開発の参考になる情報を得ることが出来、極めて有意義な調査となりました。
　当センターでは、今回の会議、調査をもとに、ファインMEMS知識データベースの拡充を図ってまいります。

３　IEC/TC 47/WG 4北京会議報告

　2007年6月27日（水）北京のTian You ホテルでIEC（国際電気標準会議）/TC 47（専門委員会 47；半導体デバイス）のWG 4（ワーキンググループ 4；MEMSデバイス、主査；大和田教授（帝京大学））の会議が開催されました。

会議風景

　IEC/TC 47/WG 4会議はおおむね年2回開催されており、その内1回はIEC/TC 47全体会議に合わせて行われ、もう1回は日本、韓国、中国の間で意見交換、協力関係構築を行うための日韓中標準化ワークショップに合わせて行われています。今回は後者であったため参加国は日本（5名）、韓国（7名）、中国(7名)の3カ国（合計19名）でした。
　今回の特徴は、通常の文書審議の他、昨年日本で作成したMEMS標準化ロードマップを紹介したことです。
　会議の概要は以下の通りです。
　(1)出席者
　　　主査 大和田邦樹（帝京大学　教授）
　　　日本　　高島和希（熊本大学　教授）、
　　　　　　　　肥後矢吉（東京大学　教授）
　　　　　　　　阿出川俊一 、見持律往（マイクロマシンセンター）
　　　韓国　　Prof. Sekwang Park (KNU)、Dr. Hak-Joo Lee (KIMM)
　　　　　　　　Prof. Sang-sik Park (Sejong Univ.)、Prof. Jae Y. Park (Kwangwoon Univ.)
　　　　　　　　Dr. Joon Shik Park (KETI)、Dr. Jae Hyun Kim (KIMM)
　　　　　　　　Dr. Chung Seog Oh (Kumoh Univ.)
　　　中国　　Dr. Yongjun Yang (Heibei Semiconductor Reserch Inst.)
　　　　　　　　Mr. Rong Qing An (Huawei Technologies)、Prof. Hong Yu (Southeast Univ.)
　　　　　　　　Ms. Xiaona Wu (SESI)、Ms. Yanmei Li (SESI)、Mr. Jun Zhou (SESI)
　　　　　　　　Mr. Kun Li (SESI)
　(2)文書審議
　　　①IEC 62047-6 Ed. 1.0 ； 薄膜材料の疲労試験法
　　　　　日本提案の文書で、CD（委員会原案）回付は終了し、イタリアから1件コメントがありました。高島教授がコメントとそれに対する意見を説明し、承認されました。その後、リー博士（韓国）からCDのコメント締め切り期限に間に合わなかったコメントの説明がありました。これらのコメントはCDV（投票用委員会原案）投票時にコメントとして韓国国内委員会から正式に提出してもらい、投票後に審議することとしました。この原案は次のCDVの段階に進むことが決定されました。
　　　②IEC 62047-4 Ed. 1.0 ； MEMS通則
　　　　　韓国提案の文書で、現在CDVとして投票にかけられています。パク教授（韓国）が前回のロンドン会議以降のCDVの改正点を説明しました。日本、中国ともコメントはほぼ取り入れられており、大きな問題はない見込みです。
　　　③IEC 62047-5 Ed. 1.0； MEMSスイッチ
　　　　　CD回付のための原案はパク教授が準備しており、彼からロンドン会議の後のCDの改正点の概要が説明されました。大和田主査からCDを直ちに回付するよう要請がありました。日本から昨年度提出したコメントがどこまで反映されているかがポイントとなります。
　　　④IEC 62047-7 Ed. 1.0 ； MEMS FBARフィルタ & デュプレクサ
　　　　　韓国提案のNP（新業務項目提案）が投票のため回付中です。パク教授（韓国）がNPの内容を説明し、日本と中国の国内委員会に支持するよう依頼がありまた。大和田主査はこのNPはTC 49（専門委員会49；周波数制御・選択デバイス）と関係しているのでの審議はTC49と一緒にすべきであると提案しました。
　　　⑤IEC 62047-8 Ed. 1.0 ； 薄膜の引張特性測定のための曲げ試験法
　　　　　韓国提案のNPが投票のため回付中です。リー博士（韓国）が前回のロンドン会議で日本が出したコメントによる改正点を説明しました。彼はまた高島教授、肥後教授の質問にも回答しました。これらの質問はコメントとしてNP投票の際に正式に提出される予定です。
　　　⑥IEC 62047-9 Ed. 1.0；MEMSパッケージにおける接合強度測定
　　　　　韓国提案のNPが投票のため回付中です。パク教授（韓国）が元のNPからの変更点を説明しました。彼はまた、高島教授、大和田教授の質問に答えました。
　(3) MEMS標準化ロードッマプの審議
　　日本の国内委員会で作成したMEMS標準化ロードマップが大和田教授と、高島教授により紹介され、ロード　マップのデバイスと応用が議論されました。パク教授（韓国）が韓国国内委員会もロードマップを作成しており、次のTC47/WG4ツ－ルーズ会議で紹介すると述べました。Yang博士（中国）も中国国内委員会がツールーズ会議で紹介することを検討すると述べました。
　(4)次回開催予定
　　次回のTC 47/WG 4会議は 2007年11月5～9日フランスのツールーズで行われるTC 47全体会議の期間中　に同じ場所で開催される予定です。

４　第３回日韓中MEMS標準化ワークショップ報告

　IEC TC47/WG4に続いて、6月28日（木）に第3回日韓中標準化ワークショップが、北京の天佑大厦（Tian You Hotel）で開かれました。日本から6名、韓国から5名、中国から12名が参加し、各国から2件づつの発表が行われ、意見交換が行われました。

会場の天佑大厦（Tian　You　Hotel）

　日本からの出席者は次の方々です。
　　帝京大学　大和田邦樹教授
　　　　　　　　　（国際標準化工学研究所代表）
　　東京工業大学　肥後矢吉教授
　　熊本大学　高島和希教授
　　立命館大学　磯野吉正教授
　　（財）マイクロマシンセンター　見持 調査研究部長、
　　　　　　　　同　　　　　　　　　　阿出川 産業交流部長

　日本からの発表は以下のとおりです。
　　①東京工業大学　肥後教授
　　　「マイクロサイズのフォトレジストとシリコン基板の
　　　接合強度の評価法」と題して、接合強度のサイズ
　　　効果（影響）について発表されました。
　　②立命館大学　磯野教授
　　　「MEMS・NEMSのための実験ナノメカニクス」と題して、シリコンナノワイヤーの曲げ試験、カーボン
　　　ナノワイヤーの単軸引張試験の新しい実際的技術が紹介されました。

東京工業大学　肥後矢吉教授

立命館大学　磯野吉正教授

　韓国からの発表は、IEC規格の新規提案を予定している次の２件の発表がありました。
　　①Micro/Nano pillar compression test for high-throughput characterization of MEMS materials.
　　②The Method for Linear Thermal Expansion of Solid MEMS Materials with Laser Interferometry
　中国から、標準化に関する取組みの状況として、次の２件の紹介がありました。
　　①Size-dependence of elastic properties and electrowetting of thin films for MEMS and bio-MEMS
　　②Spin-Valve GMR Films and Sensor Applications.

　今回が３回目の日韓中標準化ワークショップですが、これで各国での開催が一巡し、国際標準への取組みの相互理解が得られました。今後もこの分野での協力関係を維持していく合意がなされ、来年は６月ごろ日本で第４回を開催することとなりました。

５　第12回マイクロナノ先端技術交流会の開催

　賛助会員企業の専門家を対象に、マイクロナノ技術に関する各産業分野における先端技術への認識と理解を深め、マイクロナノ技術の普及啓発と産学の技術交流を図ることを目的とした「マイクロナノ先端技術交流会」の第１２回が、兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所　服部 正 教授、九州大学 工学研究院知能機械システム研究部門　澤田 廉士　教授を講師にお迎えし、7月５日（木）、マイクロマシンセンター会議室で開催されました。
　兵庫県立大学服部教授からは、「微細3次元加工技術の現状とその展開」と題して、マイクロ3次元製造へのコストダウンの要求に応える技術として、放射光・ＵＶ光によるLIGAプロセスとその展開についての講演をいただきました。
　九州大学澤田教授からは、「光MEMSの製品化とその課題」と題して、光MEMSの課題、特にパッケージに関わる課題とその解決法について、MEMSミラー、MEMSセンサー、スイッチなどのMEMSデバイスの事例をもとに、講演をいただきました。

兵庫県立大学　服部　正教授

九州大学　澤田廉士教授

　また講演終了後、講師を囲んだ技術相談・懇親会も和やかに行われました。
　

１　マイクロナノ2007の開催案内（7月25日～27日）

２　第９回MEMS講習会の開催案内（8月28日）

３　MemsONEβ版講習会の開催案内

４　2007国際ロボット展について（11月28日～12月1日）

１．経済政策動向

２．産業技術政策動向

１　マイクロマシンセンターの人事異動

　　○平成19年6月30日付
　　　　　(氏　名)　　　　　　（新）　　　　　　　　　　　　　(旧)
　　　　昆野　舜夫　　　辞　職　　　　　　　　　　　　調査研究部主任研究員　
　　○平成19年7月　2日付
　　　　内田　和義　　　調査研究部主任研究員　　　　　採　用

２　経済産業省の人事異動

　　○平成19年7月10日付
　　　　　(氏　名)　　　　　　（新）　　　　　　　　　　　　　(旧)
　　　　高橋　泰三　　資源エネルギー庁電力・ガス　　　製造産業局産業機械課長
　　　　　　　　　　　　　　　事業部原子力政策課長
　　　　秋庭　英人　　製造産業局産業機械課長　　　　　ジェトロ香港事務所
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　産業調査員