財団法人マイクロマシンセンター

[No.2007-07] 2007年7月10日発行


ニ ュ ー ス 目 次  


  1 ファインMEMSシステム化設計プラットフォーム研究開発がスタート
  2 Transducers’07およびフランスMEMS研究機関調査報告
  3 IEC/TC47/WG北京会議報告
  4 第3回日韓中MEMS標準化ワークショップ報告
  5 第12回マイクロナノ先端技術交流会の開催


  1 マイクロナノ2007の開催案内
  2 第9回MEMS講習会の開催案内
  3 MemsONEβ版講習会の開催案内
  4 2007国際ロボット展について


  1 経済政策
  2 産業技術政策動向


  1 マイクロマシンセンターの人事異動
  2 経済産業省の人事異動
    
  
ニ ュ ー ス 本 文


1 ファインMEMSシステム化設計プラットフォーム研究開発がスタート

 近年、米国を中心として設計プラットフォームを用いた表面集積化の動きが活発化し、高集積MEMSに関わる製造技術、設計技術の両面を備えたトータルな研究開発により、高集積MEMS製品の成功事例が増加してきています。
 わが国ではNEDO技術開発機構が、MEMS製造技術の飛躍を図るべく昨年より高集積複合MEMS製造技術開発事業(ファインMEMSプロジェクト)をスタートさせましたが、さらに設計技術をも充実させる目的で加速財源として「ファインMEMSシステム化設計プラットフォーム研究開発」を基本計画に新たに追加、MMCとしてこれを受託することになりました。
 内容は、ファインMEMSに係わるさまざまなデバイスに対応した統一的な設計プラットフォームとしての等価回路モデルの開発を行い、それを蓄積して閲覧できるライブラリを構築するものです。昨年度完了した設計支援システム開発「MEMS-ONEプロジェクト」のプロジェクトリーダ東京大学藤田教授を委員長、香川大学橋口教授を副委員長として開発の詳細内容まで采配をふるって頂き、世界に先駆けて日本発の高集積・複合MEMSに関する統一的設計手法を開発、Webライブラリに集積しわが国産業界に広く公開する予定です。どうか、ご期待ください。



       ファインMEMSシステム化設計プラットフォーム研究開発の概要

2 Transducers’07およびフランスMEMS研究機関調査報告

 6月10日から14日までフランス・リヨンのCite Centre de Congresで開催されたThe 14th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems(Transducers’07)に参加し、ファインMEMSの知識データベース整備事業における知識情報の収集を行いました。


   会場になったCite Centre de Congre

 この会議は、1981年に米国ボストンで開催されて以来、隔年開催されているものです。
 今回は、最終参加者数(1350名、前回は886名)、投稿アブストラクト数(1552件)ともに過去最高を記録し、この分野が一層発展していることを裏付けました。発表論文数は、口頭発表220件(前回199件)、ポスター422件(前回315件)で、全体の採択率は、40%でした。投稿アブストラクトを地域別に見ると、欧州640件、アジア620件、アメリカ290件となっており、特にアジアからの投稿の増大が目立ちます。内容別に見ると、バイオ関連投稿が最も多く260件と物理センサの230件を凌いでおります。また、化学センサも210件となっており、この分野の研究開発が従来の物理系センサから生物・化学系へシフトしていることを示しております。
 プレナリーでは、カリフォルニア大学のP.A.Pisano教授が“MEMS and Nano Technology for the Handheld, Portable Electronic and the Automotive Markets”, ETH ZurichのC.Hierold教授が”Concepts for Carbon Nanotube Sensors“, 東京大学の北森教授が”Micro and Nano Chemical System on Chip“と題して講演されました。MEMSの応用分野では、自動車と携帯向けセンサが今後も市場を牽引して行くようです。また、ファインMEMSプロジェクトの主要テーマであるCNTのMEMS応用とCMOS/MEMS一体化は、本会議においても最も活発な研究テーマでした。当センターがNEDO委託で推進しておりますファインMEMS知識データベースの既登録事例においてもこれらの分野の事例が多く、今後も益々充実してゆくものと思われます。特に、CNTは、物理センサに留まらず、バイオ、化学センサへの応用にも期待されています。本会議は、次回は、米国・デンバーで開催予定です。


口頭発表会場

ポスターセッション会場

 リヨンでの会議に引き続き、東京大学三田准教授引率のもと、NEDO/浅海主査、東京大/久保田助教、日立中研/鄭研究員とともに、フランス国内の主なファインMEMS研究拠点である3つの研究機関を訪問し、知識データを収集するとともにその研究開発動向を調査いたしました。
 まず、リヨンからバスで1時間ほどの距離に位置するグルノーブルのCEA/LETI (フランス原子力庁/電子・情報技術研究所)を訪問いたしました。ここは、人員1600名でエレクトロニクス最先端の分野全般をカバーし、日本の産総研に匹敵する規模を誇っております。Siの200mmΦと300mmΦウェハ対応ラインを有しており、11,000m2のクリーンルームを運営しています。これらの施設を有効に利用して、Si-LSI、MEMS、ナノテク、バイオの開発を有機的に行っております。特に、産業化を意識した研究体制が組まれており、産官協同が非常に良く機能しています。


LETI(グルノーブル)にて:右から
  三田先生、久保田先生、浅海主査、
     鄭日立研究員、MMC五島

 続いて、フランス南部に位置するトゥールーズに移動し、CNRS(フランス国立科学研究センター)のLAAS (Laboratory for Analysis and Architecture of Systems) を訪問いたしました。自動制御に強い研究機関で産総研ともロボット研究で共同研究を行っており、相互に研究者を派遣しているということでした。研究人員は600名で、2,000 m2のクリーンルームを有しており、MEMS開発も全般的に活発です。この研究所の特長は、Si用の旧式のプロセス装置を自らオーバーホールして試作ラインを構築するなど、高いものづくり技術を有していることです。LETIや他の国内研究機関や企業とも連携してMEMS開発を行っております。
 最後に、パリに移動し、IEF (Institute of Fundamental Electronics) を訪問いたしました。IEFは、パリ南部の郊外オルセーに位置し、CNRSとパリ第11大学の共同研究組織です。エレクトロニクス全般の基礎的な分野をカバーしており、教官52名、研究員33名、エンジニア52名、PhD学生70名から成る組織です。GaN, SiGeC等の材料研究、スピントロニクス等磁性分野の研究も盛んですが、MEMSに関しては、Alain Bosseboeuf教授を中心に東大生研、LETI、LAASをはじめ日本企業とも連携して国際的なネットワークを構築しています。本調査を通じて、参加者一同フランスにおける産官学一体となったMEMS開発体制の充実ぶりに感心すると共に、産業化推進や共同利用クリーンルームの運営方法など直接的かつ具体的に研究開発の参考になる情報を得ることが出来、極めて有意義な調査となりました。
 当センターでは、今回の会議、調査をもとに、ファインMEMS知識データベースの拡充を図ってまいります。

3 IEC/TC 47/WG 4北京会議報告

 2007年6月27日(水)北京のTian You ホテルでIEC(国際電気標準会議)/TC 47(専門委員会 47;半導体デバイス)のWG 4(ワーキンググループ 4;MEMSデバイス、主査;大和田教授(帝京大学))の会議が開催されました。


会議風景

 IEC/TC 47/WG 4会議はおおむね年2回開催されており、その内1回はIEC/TC 47全体会議に合わせて行われ、もう1回は日本、韓国、中国の間で意見交換、協力関係構築を行うための日韓中標準化ワークショップに合わせて行われています。今回は後者であったため参加国は日本(5名)、韓国(7名)、中国(7名)の3カ国(合計19名)でした。
 今回の特徴は、通常の文書審議の他、昨年日本で作成したMEMS標準化ロードマップを紹介したことです。
 会議の概要は以下の通りです。
 (1)出席者
   主査 大和田邦樹(帝京大学 教授)
   日本  高島和希(熊本大学 教授)、
        肥後矢吉(東京大学 教授)
        阿出川俊一 、見持律往(マイクロマシンセンター)
   韓国  Prof. Sekwang Park (KNU)、Dr. Hak-Joo Lee (KIMM)
        Prof. Sang-sik Park (Sejong Univ.)、Prof. Jae Y. Park (Kwangwoon Univ.)
        Dr. Joon Shik Park (KETI)、Dr. Jae Hyun Kim (KIMM)
        Dr. Chung Seog Oh (Kumoh Univ.)
   中国  Dr. Yongjun Yang (Heibei Semiconductor Reserch Inst.)
        Mr. Rong Qing An (Huawei Technologies)、Prof. Hong Yu (Southeast Univ.)
        Ms. Xiaona Wu (SESI)、Ms. Yanmei Li (SESI)、Mr. Jun Zhou (SESI)
        Mr. Kun Li (SESI)
 (2)文書審議
   ①IEC 62047-6 Ed. 1.0 ; 薄膜材料の疲労試験法
     日本提案の文書で、CD(委員会原案)回付は終了し、イタリアから1件コメントがありました。高島教授がコメントとそれに対する意見を説明し、承認されました。その後、リー博士(韓国)からCDのコメント締め切り期限に間に合わなかったコメントの説明がありました。これらのコメントはCDV(投票用委員会原案)投票時にコメントとして韓国国内委員会から正式に提出してもらい、投票後に審議することとしました。この原案は次のCDVの段階に進むことが決定されました。
   ②IEC 62047-4 Ed. 1.0 ; MEMS通則
     韓国提案の文書で、現在CDVとして投票にかけられています。パク教授(韓国)が前回のロンドン会議以降のCDVの改正点を説明しました。日本、中国ともコメントはほぼ取り入れられており、大きな問題はない見込みです。
   ③IEC 62047-5 Ed. 1.0; MEMSスイッチ
     CD回付のための原案はパク教授が準備しており、彼からロンドン会議の後のCDの改正点の概要が説明されました。大和田主査からCDを直ちに回付するよう要請がありました。日本から昨年度提出したコメントがどこまで反映されているかがポイントとなります。
   ④IEC 62047-7 Ed. 1.0 ; MEMS FBARフィルタ & デュプレクサ
     韓国提案のNP(新業務項目提案)が投票のため回付中です。パク教授(韓国)がNPの内容を説明し、日本と中国の国内委員会に支持するよう依頼がありまた。大和田主査はこのNPはTC 49(専門委員会49;周波数制御・選択デバイス)と関係しているのでの審議はTC49と一緒にすべきであると提案しました。
   ⑤IEC 62047-8 Ed. 1.0 ; 薄膜の引張特性測定のための曲げ試験法
     韓国提案のNPが投票のため回付中です。リー博士(韓国)が前回のロンドン会議で日本が出したコメントによる改正点を説明しました。彼はまた高島教授、肥後教授の質問にも回答しました。これらの質問はコメントとしてNP投票の際に正式に提出される予定です。
   ⑥IEC 62047-9 Ed. 1.0;MEMSパッケージにおける接合強度測定
     韓国提案のNPが投票のため回付中です。パク教授(韓国)が元のNPからの変更点を説明しました。彼はまた、高島教授、大和田教授の質問に答えました。
 (3) MEMS標準化ロードッマプの審議
  日本の国内委員会で作成したMEMS標準化ロードマップが大和田教授と、高島教授により紹介され、ロード マップのデバイスと応用が議論されました。パク教授(韓国)が韓国国内委員会もロードマップを作成しており、次のTC47/WG4ツ-ルーズ会議で紹介すると述べました。Yang博士(中国)も中国国内委員会がツールーズ会議で紹介することを検討すると述べました。
 (4)次回開催予定
  次回のTC 47/WG 4会議は 2007年11月5~9日フランスのツールーズで行われるTC 47全体会議の期間中 に同じ場所で開催される予定です。


4 第3回日韓中MEMS標準化ワークショップ報告

 IEC TC47/WG4に続いて、6月28日(木)に第3回日韓中標準化ワークショップが、北京の天佑大厦(Tian You Hotel)で開かれました。日本から6名、韓国から5名、中国から12名が参加し、各国から2件づつの発表が行われ、意見交換が行われました。

  会場の天佑大厦(Tian You Hotel)  

 日本からの出席者は次の方々です。
  帝京大学 大和田邦樹教授
         (国際標準化工学研究所代表)
  東京工業大学 肥後矢吉教授
  熊本大学 高島和希教授
  立命館大学 磯野吉正教授
  (財)マイクロマシンセンター 見持 調査研究部長、
        同          阿出川 産業交流部長

 日本からの発表は以下のとおりです。
  ①東京工業大学 肥後教授
   「マイクロサイズのフォトレジストとシリコン基板の
   接合強度の評価法」と題して、接合強度のサイズ
   効果(影響)について発表されました。
  ②立命館大学 磯野教授
   「MEMS・NEMSのための実験ナノメカニクス」と題して、シリコンナノワイヤーの曲げ試験、カーボン
   ナノワイヤーの単軸引張試験の新しい実際的技術が紹介されました。


東京工業大学 肥後矢吉教授

立命館大学 磯野吉正教授

 韓国からの発表は、IEC規格の新規提案を予定している次の2件の発表がありました。
  ①Micro/Nano pillar compression test for high-throughput characterization of MEMS materials.
  ②The Method for Linear Thermal Expansion of Solid MEMS Materials with Laser Interferometry
 中国から、標準化に関する取組みの状況として、次の2件の紹介がありました。
  ①Size-dependence of elastic properties and electrowetting of thin films for MEMS and bio-MEMS
  ②Spin-Valve GMR Films and Sensor Applications.

 今回が3回目の日韓中標準化ワークショップですが、これで各国での開催が一巡し、国際標準への取組みの相互理解が得られました。今後もこの分野での協力関係を維持していく合意がなされ、来年は6月ごろ日本で第4回を開催することとなりました。

5 第12回マイクロナノ先端技術交流会の開催

 賛助会員企業の専門家を対象に、マイクロナノ技術に関する各産業分野における先端技術への認識と理解を深め、マイクロナノ技術の普及啓発と産学の技術交流を図ることを目的とした「マイクロナノ先端技術交流会」の第12回が、兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 服部 正 教授、九州大学 工学研究院知能機械システム研究部門 澤田 廉士 教授を講師にお迎えし、7月5日(木)、マイクロマシンセンター会議室で開催されました。
 兵庫県立大学服部教授からは、「微細3次元加工技術の現状とその展開」と題して、マイクロ3次元製造へのコストダウンの要求に応える技術として、放射光・UV光によるLIGAプロセスとその展開についての講演をいただきました。
 九州大学澤田教授からは、「光MEMSの製品化とその課題」と題して、光MEMSの課題、特にパッケージに関わる課題とその解決法について、MEMSミラー、MEMSセンサー、スイッチなどのMEMSデバイスの事例をもとに、講演をいただきました。


兵庫県立大学 服部 正教授

九州大学 澤田廉士教授

 また講演終了後、講師を囲んだ技術相談・懇親会も和やかに行われました。
 



1 マイクロナノ2007の開催案内(7月25日~27日)


 マイクロナノ分野(マイクロマシン、MEMS等)のビジネス交流及びマイクロナノ分野の最新技術動向、産業動向が一望できる総合イベント「マイクロナノ2007」を、平成19年7月25日(水)~27日(金)の3日間、東京ビッグサイト及び東京ベイ有明ワシントンホテルにおいて、開催します。
 「マイクロナノ2007」のイベント構成及び開催日時・会場・内容は次のとおりです。
  (1)第18回マイクロマシン/MEMS展
     開催日時:7月25日(水)~7月27日(金)10:00~17:00
     開催場所:東京ビッグサイト西3&4ホール
     展示内容:出展社数:347社/7カ国・地域
     出展対象製品
       ・マイクロマシン
       ・MEMSファンドリーサービス
       ・MEMS設計ツール
       ・MEMS製造装置、超精密、微細加工装置
       ・ナノテクノロジー、ナノテク材料
       ・バイオテクノロジー、医療関係
       ・評価・計測機器
       ・ MEMSデバイス
         詳しくは、下記公式ホームページをご覧ください。
                     http://www.micromachine.jp/
      なお、MemsONE(MEMS用設計・解析支援システム)のβ版展示・デモや、ファインMEMSプロジェクト(高集積・複合MEMS製造技術開発プロジェクト)の中間成果も展示予定です。
  (2)「マイクロナノ2007」MEMSフォーラム
     開催日時:7月25日(水)10:00~16:40
            7月27日(金)10:00~12:00(標準化セッション)
     開催場所:東京ビッグサイト西ホール特設会場
     内   容:MEMS協議会の諸活動の情報発信・意見交換の場として、MEMS産業発展のための産業基盤の構築、産学連携によるMEMS技術基盤構築・展開の観点から、MEMS協議会及びアフィリエートメンバー(地域クラスター、公設試、アカデミア)の活動状況を紹介し、MEMS関連産業の拡大・発展のための課題の共通認識を深めることを目的に開催します。
       今年のMEMSフォーラムのセッション構成は、次のとおりです。
        セッション1:MEMS産業基盤強化
        セッション2:産学連携
        セッション3:国際交流
        セッション4:調査報告
        セッション5:国際標準化(7月27日)
            このなかでセッション3は、MEMS協議会の国際交流活動の一環として“Asia   MEMS Forum”を設け、中国、韓国、シンガポール、インド、台湾からアジアにおけるMEMS産業・技術動向について各国から報告します。また、27日(金)のMEMSフォーラム「国際標準化セッション」は、国際規格として発行されたMEMS専門用語及び薄膜材料引張り試験法の紹介と、試験装置の国際規格への対応についご紹介いたします。プログラム詳細は、マイクロマシンセンターホームページの「マイクロナノ2007」をご覧ください。
             http://www.mmc.or.jp/

  (3)第13回国際マイクロマシン・ナノテクシンポジウム
     開催日時:7月26日(木)9:00~18:00
     開催会場:東京ベイ有明ワシントンホテル(アイリス)
     内   容:今後のMEMS産業戦略シナリオ(MEMS技術の発展と市場の拡大)では、単機能デバイスから多機能デバイス(ファインMEMS)の創出が当面のキーとなりますが、さらに、将来の環境・エネルギー、健康・医療、快適生活空間などのライフスタイル創出を支える「MEMSフロンティア未来デバイス」の技術開発が望まれています。第13回シンポジウムは、「MEMSの未来:マイクロ加工とナノ・バイオとの融合による革新的デバイスの創生」のサブタイトルのもとに、これら分野において顕著な業績を上げている海外及び国内の第一人者の研究者を招待し、最先端技術の講演を行います。プログラム詳細は、下記ホームページをご覧ください。
           ../../kokusai/sympo/13sympo/annai/index.html

  (4)国・NEDOプロジェクト(ファインMEMS)中間成果発表会
     開催日時:7月27日(金)(7/27午後~)13:00~16:30
     開催会場:東京ビッグサイト西ホール内特設会場
     内   容:MEMS産業の発展を支える基盤技術として平成18年度から3年間の予定でスタートしましたNEDOプロジェクト「高集積・複合MEMS製造技術開発プロジェクト」(ファインMEMS)の中間成果を紹介します。ファインMEMSプロジェクトは、微小三次元化構造加工の高度化と、ナノ部材・異種材料の活用による機能の複合化・集積化を図るための製造基盤技術を開発するものです。プログラム詳細は、マイクロマシンセンターホームページの「マイクロナノ2007」をご覧ください。
             http://www.mmc.or.jp/

2 第9回MEMS講習会の開催案内(8月28日)


 当センターファンドリーサービス産業委員会では、MEMS産業の裾野を広げ、その発展を促進するために初心者・中級者を対象に現在まで8回のMEMS講習会を開催してきましたが、今回、第9回MEMS講習会「MEMSの設計・加工技術と応用例」を開催いたします。
 なお、今回は特に、「MEMSの設計技術」として、新たに開発されたMEMSデバイス設計支援用ツール「MemsONE」の概要及び「MemsONE」を使用したMEMSデバイス設計事例の講演がありますので積極的なご参加をお願い致します。

  第9回MEMS講習会「MEMSの設計・加工技術と応用例」
         (初心者・中級者向け)
   ◇日 時:2007年8月28日(火)13:00~17:50~19:00
   ◇場 所:アルカディア市ヶ谷(東京・私学会館)6階阿蘇及び6階伊吹
             〒102-0073 東京都千代田区九段北4丁目2番25号
                              TEL:03-3261-9921(代表)
             地図URL http://www.arcadia-jp.org/
   ◇参加費: 一般  10,000円 / MEMS協議会メンバー 8,000円
          参加費には講習会資料と懇談会費が含まれます。
          参加費は当日会場で支払い下さい。
          現金支払いのみの受付(領収書を発行します)となります。
   ◇定 員:100名 (定員になり次第、締切りさせて頂きます。)
   ◇参加申込:このメール最終部分の申込欄に必要事項をご記入の上、
           メール又はFAXにてご送信ください。
   ◇問合せ先:〒101-0026 東京都千代田区神田佐久間河岸67 MBR99ビル 6階
                    財団法人マイクロマシンセンター
                       ファンドリーサービス産業委員会講習会担当(織田、酒向)
                       TEL 03-5835-1870, FAX 03-5835-1873
   ◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇ プログラム ◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇◇
     第9回MEMS講習会「MEMSの設計・加工技術と応用例」
         13:00  主催者挨拶
                  青柳 桂一(財団法人マイクロマシンセンター 専務理事)
         13:10  MEMSの集積・融合の進展と新産業創出への期待
                  杉山 進(立命館大学COE推進機構 教授)
         14:10  MEMSの設計技術(1) 設計技術及び設計ツール概要
                  小寺 秀俊(京都大学大学院 工学研究科 教授)
         14:40  MEMSの設計技術(2) MEMSデバイス設計事例
               光偏向器の設計:村上 賢治(オリンパス(株)研究開発センター 課長)
               RF-MEMSの設計:森口 誠(オムロン(株)先端デバイス研究所 主事)
               センサーMEMS設計:桐原 昌男(松下電工(株)EMITデバイス開発部)
                             宮武 岳洋(松下電工(株)先行技術研究所)
         15:25~16:00
               技術相談会(各社パネル展示説明及びMemsONEビデオ放映)及び休憩
         16:00  MEMS応用例(1)  ナノインプリントプロセス技術
               高橋 正春((独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門
                          グループ長)
         16:45  MEMS応用例(2)  MEMS加速度センサーとその応用
               坂田 稔(STマイクロエレクトロニクス(株)APMグループ 課長)
         17:30  ファンドリーサービス産業委員会活動紹介
               富井 和志(松下電工(株)新規商品創出開発部EMIデバイス開発部
                           主担当)
     ---- 休憩 17:50~18:00 ----
         18:00~19:00   懇談会 (6階伊吹)
   ◆ 参加申込
    下記に必要事項をご記入の上、E-メール又はFAXにてご送付ください。
        E-mail: mems-ws@mmc.or.jp / FAX: 03-5835-1873
        http://fsic.mmc.or.jp/mems-koshu/koshu-9/koshu-9.html
     ====== お申込は下記の申込欄のみをご返信下さい。========
    *----*----*----*----*----*----* 参加申込み欄 *----*----*----*----*----*
          第9回講習会「MEMSの設計・加工技術と応用例」参加申込欄 
                    (2007年8月28日(火)開催)
      申込者氏名:
      氏名フリガナ:
      会社・団体名:
      所属部署:
      役職:
      勤務先〒番号:
      勤務先住所:
      TEL:
      E-mail:
      参加費: どちらか一方を残してください
            ①一般 (10,000円)  ②MEMS協議会メンバー (8,000円)
    *----*----*----*----*----*----*----*----*----*----*----*----*----*----*

3 MemsONEβ版講習会の開催案内

 MEMS用設計・解析支援システム開発プロジェクトが生み出したソフトウェア「MemsONEβ版」の頒布を6月初旬より開始致しました。MemsONEを日本国内に広く普及させるためには、操作手順や解析の技術的なユーザ支援が不可欠です。このため、複数のPCにMemsONEβ版をインストールした環境を用意し、実際にPC上でMemsONEβ版を使ってGUI操作や解析手順を中心に指導を行います。この講習会を実習講座と称し、基本コースと応用コースの2コースを用意しています。開催期間は7月から来年1月迄で、期間の前半は基本コースを、後半は応用コースを予定しています。
 ○基本コース: フレームワーク操作と解析ソフトの利用方法を指導
 ○応用コース: 一通り使いこなせる人を対象に解析ソフトの設計・研究に有用な活用方法を指導
 開催は、関東(東京大学本郷キャンパス)で6回、関西(京都大学吉田山キャンパス)で2回を予定しています。
                       実習講座の開催月
この実習講座の他に、β版を使った解析事例発表セミナーや他の機関で開催される講習会内でも積極的に開催していく予定です。なお、実習講座は有料ですが、他のセミナーや講習会は無料です。
ユーザの方々には、講習会の開催日時が決まり次第ご案内致します。多く方々の参加をお待ち致すと共に、この講習会の実施により、MemsONEユーザが拡大することを期待しています。


4 2007国際ロボット展について(11月28日~12月1日)

 社団法人日本ロボット工業会/日刊工業新聞社主催による、2007国際ロボット展は下記により開催予定ですので、ご案内申し上げます。なお、2007国際ロボット展に特別企画として「マイクロファクトリー実証ゾーン」が設けられます。主催者によると、「本特別ゾーンでは、未来のマイクロファクトリーの実現に向けた様々な機器、製品、ソリューションビジネスを一同に展示・展開される」とのことであります。
                記
   会  期   平成19年11月28日(水)~12月1日(土)
   会  場   東京ビッグサイト 東ホール
   開催時間   午前10時~午後5時(最終日は、午後4時30分まで)
   予想来場者  10万人
   入場料    一般1,000円 学生・団体(15名以上)500円
           但し、事前登録者及び招待券持参者は無料
   その他    現在、特別企画「マイクロファクトリー実証ゾーン」への出展者を募集中ですので、関
           心のある方は2007国際ロボット展事務局(URL: http://www.nikkan.co.jp./eve/ )ま
           でお問い合わせ下さい



1.経済政策動向

■月例経済報告(6月18日)
 6月の月例報告では、景気の基調判断について「景気は、生産の一部に弱さがみられるものの、回復している。」との判断。先行きについては、企業部門の好調さが持続し、これが家計部門へ波及し国内民間需要に支えられた景気回復が続くと見込まれる。一方、原油価格の動向が内外経済に与える影響等には留意する必要がある。としている。
  ○ 月例経済報告関係資料
    http://www5.cao.go.jp/keizai3/2007/0618getsurei/main.html
   
■経済産業省の主な経済指標(6月28日)
 経済産業省は各種経済指標を取りまとめた資料を発表。たとえば、鉱工業指数(IIP)に関しては、「5月(速報値)の生産は前月比▲0.4%と3ヶ月連続の低下、出荷は同0.1%と2ヶ月連続の上昇、在庫は同▲0.3%と2ヶ月ぶりの低下、在庫率は同▲3.0%の低下。」と分析している。
 [概要(PDF)]http://www.meti.go.jp/statistics/downloadfiles/omonakeikishihyo.pdf
 [ダイジェスト]http://www.meti.go.jp/statistics/data/hshihyo01j.html

■経済成長戦略関連
国際競争力の強化と地域経済の活性化を二本柱とし、継続的に人口が減少するという逆風の下でも「新しい成長」が可能なことを示す「新経済成長戦略」に関連するこれまでの政策動向は以下の通り。
  ○経済成長戦略大綱のとりまとめについて (H18.7.6)
   http://www.meti.go.jp/topic/data/e60713aj.html
  7月6日の財政・経済一体改革会議において、「経済成長戦略大綱」が決定され、
 公表されている。 本大綱は、人口減少が本格化する2015年度までの10年間に
 取り組むべき施策について、経済産業省を中心としてとりまとめたもの。経済と
 財政の一体的な改革を進めるに当たって、歳出・歳入一体改革と並ぶ車の両輪
 として、政府・与党の最優先課題と位置づけられている。
  ○新経済成長戦略について (H18.6.9) http://www.meti.go.jp/press/20060609004/20060609004.html
  経済産業省は、「国際競争力の強化」と「地域経済の活性化」を二本柱とし、
 継続的に人口が減少するという逆風の下でも「新しい成長」が可能なことを示す
 「新経済成長戦略」をとりまとめ、6月9日にその内容を公表している。
  ○新産業創造戦略について (H17.6.13)
   http://www.meti.go.jp/policy/economic_industrial/shin_sangyou.html

2.産業技術政策動向

■総合科学技術会議開催(5月18日)
 第67回総合科学技術会議が5月18日に開催され、議事は以下のとおり。
 (1)イノベーション創出加速に向けた技術革新戦略ロードマップ
 (2)知的財産戦略について
 (3)最近の科学技術の動向
 (4)その他
 なお、配布された資料については、総合科学技術会議(第67回)議事次第参照
  http://www8.cao.go.jp/cstp/siryo/haihu67/haihu-si67.html

■総合科学技術会議開催(6月14日)
 第68回総合科学技術会議が6月14日に開催され、議事は以下のとおり。
 (1)平成20年度科学技術に関する予算等の資源配分の方針(案)について
 (2)競争的資金の拡充と制度改革の推進について
 (3)最近の科学技術の動向
 (4)その他
  なお、配布された資料については、総合科学技術会議(第68回)議事次第参照
   http://www8.cao.go.jp/cstp/siryo/haihu68/haihu-si68.html

 また、科学技術の振興に関する施策の総合的かつ計画的な推進を図るための第3期科学技術基本計画は平成18年3月28日に閣議決定されている
  [本文(PDF形式)] http://www8.cao.go.jp/cstp/kihonkeikaku/honbun.pdf
  [概要(PDF形式)] http://www8.cao.go.jp/cstp/kihonkeikaku/gaiyo.pdf
  [分野別推進戦略]  http://www8.cao.go.jp/cstp/kihon3/bunyabetu.html

■経済産業省の産業技術政策
 ○産業技術政策の概要(パンフレット)
  ―技術革新による強靭な経済発展基盤の構築に向けて―
    http://www.meti.go.jp/policy/innovation_policy/main_01.files/pamphlet.pdf

 ○経済産業省の研究開発 「技術戦略マップ2007」
     http://www.nedo.go.jp/roadmap/2007/all.pdf
  「技術戦略マップ2007」が平成19年4月に経済産業省から発表になっています。技術戦略マップは、新産業 を創造していくために必要な技術目標や製品・サービスの需要を創造するための方策を示したもの。

■NEDO産業技術政策関連
 ○ NEDO海外レポート1002号 「省エネルギー特集」
  世界の省エネルギーへの取組状況 2007.6.20
    http://www.nedo.go.jp/kankobutsu/report/1002/1002-01.pdf



1 マイクロマシンセンターの人事異動

  ○平成19年6月30日付
     (氏 名)      (新)             (旧)
    昆野 舜夫   辞 職            調査研究部主任研究員 
  ○平成19年7月 2日付
    内田 和義   調査研究部主任研究員     採 用

2 経済産業省の人事異動


  ○平成19年7月10日付
     (氏 名)      (新)             (旧)
    高橋 泰三  資源エネルギー庁電力・ガス   製造産業局産業機械課長
               事業部原子力政策課長
    秋庭 英人  製造産業局産業機械課長     ジェトロ香港事務所
                                        産業調査員

 

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