BEANS ＞ 研究成果　2012年度 | 2011年度 | 2010年度 | 2009年度 | 2008年度
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　　　研究成果（3D BEANSセンター）
2012年度 | 2011年度 | 2010年度 | 2009年度 | 2008年度

　2012年度

　【特許】
  • 2012年度研究成果として9件出願．

　【学会発表，論文】
  1. 脇岡寛之，額賀理，山本敏，田端和仁，杉山正和，「フェムト秒レーザ加工で作製したナノ流路の加工技術」，2012MRS Spring Meeting，Moscone West Convention Center San Francisco，2012年4月
  2. 嶋田友一郎，梅津光央，近本拓馬，鈴木瑞明，杉山正和，藤田博之，"Immobilization of Nanoparticles onto Carbon Nanotubes Based on Affinity Binding Peptides"，2012MRS Spring Meeting， Moscone West Convention Center San Francisco，2012年4月
  3. 近本拓馬，嶋田友一郎，梅津光央，杉山正和，"Selectively Controlled Alignment of Single Carbon Manotube Bundle by Dielectrophoresis"，2012MRS Spring Meeting， Moscone West Convention Center San Francisco，2012年4月
  4. 阿波嵜実，相馬伸一，諸貫信行，杉山正和，"HiGH -SENSITIVITY GAS SENSOR WITH INVERSE-OPAL NANO-FRACTAL STRUCTURE IN TRENCHES FABRICATED BY HYBRID-PARTICLES SUSPENSION COATING"，2012MRS Spring Meeting， Moscone West Convention Center San Francisco，2012年4月
  5. 近本拓馬，嶋田友一郎，梅津光央，杉山正和，"Selectively Controlled Alignment of Single Carbon Manotube Bundle by Dielectrophoresis"，ICEP-IAAC2012，東京ビッグサイト東京都江東区，2012年4月
  6. 西森勇貴，橋口原，植木真治，「カンチレバーのQ値による表面ダメージ評価手法」，ロボティクス・メカトロニクス2012，アクトシティ浜松，静岡県浜松市，2012/5/29
  7. 安藤泰久，冨澤泰，福田めぐみ，"Material Characterization of Nanostripe Surface Using Scanning Probe Microscope"，MIPE2012，サンタクララ，米国，2012年6月
  8. 冨澤泰，李永芳，安藤泰久，藤田博之"，"INVESTIGATION ON THE THREE TRIBOLOGICAL FACTORS AT A NANO-SCALE CONTACT AREA OF PROBE DEVICES"，MIPE2012，サンタクララ，米国，2012年6月
  9. Yuki Nishimori， Shinji Ueki， Masakazu Sugiyama， Seiji Samukawa， Gen Hashiguchi，"A NEW EXPERIMENTAL APPTOACH TO EVALUATE PLASMA-INDUCED DAMAGE IN MICROCANTILEVER"，MIPE2012，サンタクララ，米国，2012年6月
  10. 三輪和弘，西森勇貴，植木真治，杉山正和，久保田智広，寒川誠二，"NOVEL　DRY PROCESS for PLANARIZATION of MEMS SIDEWALL using NEUTRAL BEAM ETCHING"，MIPE2012，サンタクララ，米国，2012年6月
  11. Shinji Ueki，Yuki Nishimori，Hiroshi Imamoto，Masakazu Sugiyama，Gen Hashiguchi，"EVALUATION OF RESONANCE FREQUENCY SHIFT OF VB-FET CAUSED BY JOULE HEATING AT THE CHANNEL"，MIPE2012，サンタクララ，米国，2012年6月
  12. 李永芳，"A SIMPLE MASS-PRODUCTION-READY ANTI-WEAR PROBE FOR NANO-LITHOGRAPHY"，IEEE APCOT2012，2012年7月
  13. Yuki Nishimori， Shinji Ueki， Masakazu Sugiyama， Seiji Samukawa， Gen Hashiguchi，"A NEW EXPERIMENTAL APPTOACH TO EVALUATE PLASMA-INDUCED DAMAGE IN MICROCANTILEVER"，ICNERE 2012，The Magane Hotel Bali，INDONESIA，2012年7月
  14. 梅津光央，熊谷泉，「ボトムアップな粒子アセンブリツールとしてのバイオ分子」，"日本セラミックス協会 学術誌「セラミックス」8月号特集「ナノ粒子の分散とアセンブリ」
  15. 李永芳，冨澤泰，古賀章浩，杉山正和，藤田博之，"MULTIPLE PROBES FOR PARALLEL SPM LAO NANO-LITHOGRAPHY"，NANO2012，Rhodes， Greece，ギリシャ　ロードス島，2012年8月
  16. Shinji Ueki， Yuki Nishimori， Hiroshi Imamoto， Masakazu Sugiyama， Gen Hashiguchi，"VERTICAL VIBRATING-BODY FIELD-EFFECT TRANSISTOR FOR IMPROVED DYNAMIC PROPERTIES"，NANO2012，Rhodes， Greece，ギリシャ ロードス島，2012年8月
  17. 嶋田友一郎，梅津光央，近本拓馬，杉山正和，藤田博之，"PEPTIDE-ASSISTED IMMOBILIZATION AND SURFACE FUNCTIONALIZATION FOR CARBON NANOTUBE BASED NANO-ASSEMBLING DEVICES"，NANO2012，Rhodes， Greece，ギリシャ ロードス島，2012年8月
  18. 植木真治，西森勇貴，今本浩史，杉山正和，橋口原，「熱等価回路によるＶＢ-ＦＥＴチャネルのジュール熱評価」，日本機械学会2012年度年次大会，2012年9月
  19. 脇岡寛之，額賀理，山本敏，杉山正和，「フェムト秒レーザアシストエッチングによるナノ流路形成技術」，機械学会　2012年度年次総会，2012年9月
  20. 大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，望月俊輔，杉山正和，久保田智広，寒川誠二，「中性粒子ビームエッチングモデルと加工形状解析(2)」，2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会，愛媛大学城北地区，松山大学文京キャンパス，2012年9月
  21. 近本拓馬，嶋田友一郎，梅津光央，杉山正和，「誘電泳動法によるSW-CNTの選択的修飾」，日本機械学会2012年度年次大会，金沢大学，2012年9月
  22. 望月俊輔，渡辺尚貴，大塚晋吾，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，三輪和弘，久保田智広，杉山正和，寒川誠二，「中性粒子ビームエッチングの加工形状シミュレーション（3）」，2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会，愛媛大学城北地区，松山大学文京キャンパス，2012年9月
  23. 渡辺尚貴，大塚晋吾，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，植木真治，額賀理，杉山正和，久保田智広，寒川誠二，「第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析 VI」，2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会，愛媛大学城北地区，松山大学文京キャンパス，2012年9月
  24. 大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，望月俊輔，杉山正和，久保田智広，寒川誠二，「中性粒子ビームエッチングモデルと加工形状解析」，電気学会　第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム，北九州国際会議場および西日本総合展示場　福岡県北九州市，2012年9月
  25. 冨澤泰，李永芳，古賀章浩，安藤泰久，藤田博之，「ナノスケール摺動電気接点における 接触抵抗安定性と耐摩耗性の二律背反」，電気学会　第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム，北九州国際会議場および西日本総合展示場　福岡県北九州市，2012年10月
  26. 李永芳，冨澤泰，古賀章浩，杉山正和，藤田博之，「マルチ耐摩耗プローブによるナノパターンの並列描画」，電気学会　第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム，北九州国際会議場および西日本総合展示場　福岡県北九州市，2012年10月
  27. 嶋田友一郎，梅津光央，近本拓馬，杉山正和，藤田博之，「ペプチドアプタマーを利用したカーボンナノチュ－ブデバイス構築プロセスの検討」，電気学会　第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム，北九州国際会議場および西日本総合展示場　福岡県北九州市，2012年10月
  28. 植木真治，西森勇貴，三輪和弘，今本浩史，久保田智広，杉山正和，寒川誠二，橋口原，「高い電流利得を有するVibrating-Body Field-Effect Transistorの提案」，電気学会　第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム，北九州国際会議場および西日本総合展示場　福岡県北九州市，2012年10月
  29. 望月俊輔，渡辺尚貴，大塚晋吾，岩崎拓也、小野耕平，入江康郎，三輪和弘，久保田智広，杉山正和，寒川誠二，"Shape Simulation of Chlorine Neutral Beam Etching"，電気学会 第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム，北九州国際会議場および西日本総合展示場　福岡県北九州市，2012年10月
  30. 西森勇貴，植木真治，三輪和弘，杉山正和，寒川誠二，橋口原，「プラズマダメージを抑制した中性粒子ビームエッチングのMEMSにおける効果検証と各種シリコン表面との比較」，電気学会 第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム，北九州国際会議場および西日本総合展示場　福岡県北九州市，2012年10月
  31. 阿波嵜実，相馬伸一．諸貫信行，杉山正和，「ディップコーティング法により作製した細孔形成逆オパール構造ガスセンサ」，電気学会　第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム，北九州国際会議場および西日本総合展示場　福岡県北九州市，2012年10月
  32. 大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，久保田智広．寒川誠二，"Theoretical calculation of neutralization efficiency of positive and negative chlorine ions with consideration of excited states"，AVS 59th International Symposium &　Exhibition 2012， Tampa. FLORIDA USA，2012年11月
  33. 嶋田友一郎．梅津光央．近本拓馬．杉山正和．藤田博之，"PEPTIDE-ASSISTED FUNCTIONALIZATION FOR CARBON NANOTUBE BASED SENSOR DEVICES"，NanoMedicine 2012， Shenzhen， China，2012年11月
  34. 冨澤泰，李永芳．古賀章浩．安藤泰久．橋口原．藤田博之，"Electric Contact Stability of Anti-Wear Probes"，電子情報通信学会 Electronics Express
  35. 嶋田友一郎，梅津光央，近本拓馬，杉山正和，藤田博之，「ペプチドアプタマーを利用した異種ナノ材料間選択的結合プロセスの構築と特性評価」，第85回日本生化学大会，福岡国際会議場，福岡県福岡市，2012年12月
  36. 脇岡寛之，山本敏，田端和仁，杉山正和，"ATTOLITER ORDER DROPLET FORMATION USIONG NANOCHANNELS AND ENZYME REACTION INSIDEA DROPLET"，IEEE MEMS2013，台北，台湾，2013年1月
  37. 阿波嵜実，相馬伸一，諸貫信行，杉山正和，"NANO-FRACTAL GAS SENSR INTEGRATED ON MICRO HEATER FABRICATED WITH SUSPENSION COATING"，IEEE MEMS2013，台北，台湾，2013年1月
  38. 近本拓馬，嶋田友一郎，梅津光央，杉山正和，"INTEGRATION OF SINGLE-WALLED CARBON NANOTUBE BUNDLE ON CANTILEVER BY DIELECTROPHORESIS"，IEEE MEMS2013，台北，台湾，2013年1月
  39. 冨澤泰，安藤泰久，藤田博之，"Influence of Material Properties on Major Tribological Factors at a Nanoscale Sliding Electric Contact of Probe Devices"，日本機械学会 Journal of Advanced Mechanical Design， System and Manufacturing （国際学会MIPE2012特集号）
  40. 嶋田友一郎，梅津光央，近本拓馬，冨澤泰，杉山正和，藤田博之，「材料結合性ペプチドを用いたカーボンナノチューブ薄層形成とその特性評価」，電気学会 E部門 バイオ・マイクロシステム研究会「先端バイオMEMS」，東京大学 生産技術研究所，東京都目黒区，2013年3月
  41. 脇岡寛之，山本敏，田端和仁，杉山正和，「ナノ流路を用いて作製したアトリットルドロップレットとドロップレット内部での酵素反応」，電気学会 E部門 バイオ・マイクロシステム研究会「先端バイオMEMS」，東京大学 生産技術研究所，東京都目黒区，2013年3月
  42. 冨澤泰，李永芳，古賀章浩，安藤泰久，藤田博之，「ナノスケール摺動電気接点における接触抵抗安定性と耐摩耗性」，電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌）
  43. 李永芳，"ARRAYED ANTI WEAR-PROBES FOR STABLE AND HIGH-THROUGHPUT SPM NANOLITHOGRAPHY"，Transducers 2013， Barcelona， Spain，2013年6月（予定）
  44. 李永芳，杉山正和，藤田博之，"Patterning Ability of a Mass-production-ready Anti-wear Probe"，APEX
  45. 李 永芳，杉山正和，藤田博之，"Sidewall Micro-probe with Low Wear and Long-term Stable Performances for AFM Nano-lithography"，IEEE/ASME， Journal of Microelectromechanical Systems(JMEMS)

【TV･新聞報道】
  1. 李永芳，「次世代以降向けマスク描画・修正技術を開発～50nm線幅プローブリソで数百倍の描画耐久性向上を実現～」，セミコンポータル，2012年7月
  2. 李永芳，「次世代以降向けマスク描画・修正技術を開発～50nm線幅プローブリソで数百倍の描画耐久性向上を実現～」，Electronics Weekly，2012年7月
  3. 李永芳，「次世代以降向けマスク描画・修正技術を開発～50nm線幅プローブリソで数百倍の描画耐久性向上を実現～」，日刊工業新聞z2012年7月10日23面

　【講演・展示】
  1. 大塚晋吾，渡辺尚貴，「プラズマ・プロセス形状シミュレータFabMeister-PE」，第23回マイクロマシン/MEMS展，東京ビッグサイト，東京都江東区，2012年7月
  2. 冨澤泰，李永芳，「微細パターニングと高耐久性を両立　NEMSプローブデバイス」，東芝主催の社外顧客向け展示会，2012年7月

【刊行物】
  1. 李永芳，「プローブリソグラフィー向けN/MEMSプローブ技術」，東芝レビュー 2013年3月68巻3号

【受賞実績】
  1. 日本機械学会賞（論文），冨澤 泰，安藤 泰久，藤田 博之，「ナノスケールプローブ先端の電気的コンタクト特性」，日本機械学会論文集（C 編），78 巻 786 号 （2012-2）

　2011年度

　【特許】
  • 2011年度研究成果として9件出願．

　【学会発表，論文】
  1. Tomohiro Kubota, Shinji Ueki, Yuki Nishimori, Gen Hashiguchi, Masakazu Sugiyama, and Seiji Samukawa, "Damage-free silicon etching using large diameter neutral beam source", ICEP2011 International Conference on Electronics Packaging
  2. Y. Shimada, M. Suzuki, M. Sugiyama, I. Kumagaya and M. Umezu, "Site-selective binding of nanoparticles onto a silicon chip by peptides with an affinity for inorganic materials", ICEP2011 International Conference on Electronics Packaging
  3. 額賀理，山本敏，田端和仁，久保田智広，寒川誠二, """Ｅｍｂｅｄｄｅｄ　Ｎａｎｏ－ｃｈａｎｎｅｌ　Ｆａｂｒｉｃａｔｅｄ　ｉｎ　Ｆｕｓｅｄ　Ｓｉｌｉｃａ　ｂｙ　Ｆｅｍｔｏｓｅｃｏｎｄ　Ｌａｓｅｒ Ｉｒｒａｄｉａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｗｅｔ　Ｅｔｃhing ｆｏｒ　Ｎａｎｏ－ｓｃａｌｅ　Ｆｌｕｉｄ　Ｄｅｖｉｃｅｓ""", ICEP2011 International Conference on Electronics Packaging
  4. 阿波嵜実，山田啓太，相馬伸一，諸貫信行，杉山正和, "BIOASSISTED SELECTIVE-CAPTURE AND RELEASE OF NANOPARTICLES TOWARD APPLICATION ON MICROFLUIDIC DEVICES", Transducers 2011
  5. Y. Shimada, M. Suzuki, M. Sugiyama, I. Kumagaya and M. Umezu, "BIOASSISTED SELECTIVE-CAPTURE AND RELEASE OF NANOPARTICLES TOWARD APPLICATION ON "MICROFLUIDIC DEVICES, Transducers 2011
  6. Tomohiro Kubota and Seiji Samukawa, "Silicon　etching　using　large－diamwter　neutral　beam　source", The 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology
  7. 久保田智広，大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，杉山正和，大竹浩人，寒川誠二, 「中性粒子ビームによるシリコンエッチング（４）」, 2011年秋季第72回応用物理学会 学術講演会
  8. 渡辺尚貴，大塚晋吾，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，植木真治，額賀理，杉山正和，久保田智広，寒川誠二, 「第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析Ⅴ」, 2011年秋季第７２回応用物理学会 学術講演会
  9. 大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，植木真治，額賀理，杉山正和，久保田智広，寒川誠二, 「中性粒子ビーム生成におけるアパーチャ構造とエッチング特性解析」, 2011年秋季第７２回応用物理学会 学術講演会
  10. 望月俊輔，渡辺尚貴，大塚晋吾，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，久保田智広，杉山正和，寒川誠二, 「中性粒子ビームエッチングの加工形状シミュレーション」, 2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会
  11. Takuya Mino，Hideki Hirayama．Takayoshi Takano，Kenji Tsubaki，Masakazu Sugiyama, "Realization　of　256－278　nm　AlGaN－Based　Deep－Ultraviｏｌｅｔ　Ｌｉｇｈｔ－Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅｓ　ｏｎ　Ｓｉ　Ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ　Using　Epitaxial　Lateral Overgrowth AlN Templates", Applied Physics Express 4 (2011) 092104
  12. 嶋田友一郎，杉山正和，鈴木瑞明，梅津光央, 「カーボンナノチューブ結合性ペプチド分子を用いた機能性ナノ材料固定技術の開発」, 第5回バイオ関連化学シンポジウム
  13. 渡辺尚貴，大塚晋吾，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，額賀理，植木真治，久保田智広，杉山正和，寒川誠二, 「第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析」, 第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
  14. 大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，額賀理，植木真治，久保田智広，杉山正和，寒川誠二, 「中性粒子ビーム生成におけるアパーチャ構造とエッチング特性解析」, 第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
  15. 岩崎拓也，小野耕平，山田英雄，百瀬健，内田博久，霜垣幸浩，杉山正和, 「基板加熱型超臨界製膜装置における自然対流シミュレーション」, 第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
  16. 脇岡寛之，額賀理，山本敏，久保田智広，寒川誠二，田端和仁，杉山正和, 「フェムト秒レーザアシストエッチングによるナノ流路形成技術とバクテリウム培養デバイスへの応用」, 第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
  17. 嶋田友一郎，杉山正和，鈴木瑞明，梅津光央, 「材料結合性ペプチド分子をインターフェースとしたナノカーボン表面への機能性ナノ粒子の固定化」, 第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
  18. 植木真治，西森勇貴，今本浩史，久保田智広，杉山正和，寒川誠二，橋口原, 「リング型振動子にトランジスタを集積化したVB-FETの特性解析」, 第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
  19. 近本拓馬，鈴木瑞明，嶋田友一郎，梅津光央，杉山正和, 「誘電泳動法によるＣＮＴバンドルの選択的修飾」, 第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
  20. Tomohiro Kubota, Akira Wada, Shingo Ohtsuka, Kohei Ono, Hiroto Ohtake, Shinji Ueki, Yuki Nishimori, Gen Hashiguchi, and Seiji Samukawa, "High-Aspect-Ratio Silicon Etching using Large-Diameter Neutral Beam Source", American Vacuum Society 58th International Symposium & Exhibition
  21. 大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，額賀理，植木真治，久保田智広，杉山正和，寒川誠二, "Energy & Angular Distribution Analysis for Neutral Beam and Application for Etching Simulation", 2011 AVS 58th International Symposium & Exhibition
  22. 渡辺尚貴，大塚晋吾，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，額賀理，植木真治，久保田智広，杉山正和，寒川誠二, "Numerical Simulation of Neutral beam Generation by First-Principles Quantum Mechanics", 2011 AVS 58th International Symposium & Exhibition
  23. Y. Nishimori, S. Ueki, T. Kubota, M. Sugiyama, G. Hashiguchi, "Quantitative Research on Low-Damage Neutral Beam Etching Effect of Mechanical Properties", 2011 AVS 58th International Symposium & Exhibition
  24. 李 永芳，冨澤 泰，古賀 章浩，橋口 原，杉山 正和，藤田 博之, 「耐摩耗構造プローブを用いたプローブリソグラフィー実験の成果」, マイクロ・ナノ工学国際ワークショップ
  25. 西森勇貴，植木真治，久保田智広，杉山正和，橋口原, "Selectively-Method to Evaluate the Influence　of Surface Loss on Micro Cantilever", マイクロ・ナノ工学国際ワークショップ
  26. 植木真治，西森勇貴，今本浩史，久保田智広，杉山正和，寒川誠二，橋口原, "Analysis of VB-FET using RC Ladder Circuit", マイクロ・ナノ工学国際ワークショップ
  27. 阿波嵜実，相馬伸一，諸貫信行，杉山正和, "ARGE-SURFACE-AREA 3D SELF-ASSEMBLED NANO-POROUS STRUCTURE FOR HIGH CONCENTRATION GAS SENSING", マイクロ・ナノ工学国際ワークショップ
  28. N. Watanabe, T. Kubota and M. Samukawa, "Numerical study on electron transfer mechanism by collision of ions at graphite surface in highly-efficient neutral beam generation", The 8th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing(JSPP2012)
  29. Y. Nishimori, Y, S. .Ueki, K. Miwa, T. Kubota., S. Samukawa, G. Hashiguchi and M. Sugiyama, "Recovery of Plasma-Induced Mechanical Damage in Resonators Using Neutral Beam Etching:Wafer-Scale Validation by Arrayed Cantilevers", MEMS2012
  30. 冨澤泰，安藤泰久，藤田博之, 「ナノスケールプローブ先端の電気的コンタクト特性」, 日本機械学会論文集（C編） 78巻786号（2012-2）
  31. 久保田智広，三輪和弘，大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，杉山正和，寒川誠二, 「中性粒子ビームによるシリコンエッチング（５）」, 2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会
  32. Y. F. Li, Y. Tomizawa, A. Koga, G. Hashiguchi, M. Sugiyama and H. Fujita, "Patterning Property of a Novel Anti-wear Probe for SPM LAO Lithography", NEMS2012
  33. 大塚晋吾，渡辺尚貴，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，望月俊輔，杉山正和，久保田智広，寒川誠二, 「中性粒子ビームエッチングモデルと加工形状解析」, 2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会
  34. 近本拓馬，嶋田友一郎，梅津光央，杉山正和, 「誘電泳動法によるＳＷ－ＣＮＴバンドルの選択的修飾」, 2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会合同セッションＬ「MEMS、NEMSの基礎と応用：異種機能集積化」
  35. 嶋田友一郎，梅津光央，近本拓馬，杉山正和, 「材料結合性ペプチドを利用した異種材料接合技術の開発」, 2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会 合同セッションＬ「MEMS、NEMSの基礎と応用：異種機能集積化」
  36. 三輪和弘，西森勇貴，植木真治，杉山正和，久保田智広，寒川誠二, 「中性粒子ビームエッチングによるMEMS側壁の平坦化」, 2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会
  37. 望月俊輔，渡辺尚貴，大塚晋吾，岩崎拓也，小野耕平，入江康郎，久保田智広，杉山正和，寒川誠二, 「中性粒子ビームエッチングの加工形状シミュレーション（２）」, 2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会

　【講演・展示】
  1. 李永芳，冨澤泰, 「耐摩耗構造プローブを用いたプローブリソグラフィー実験の成果」, 東芝主催　社外顧客向け展示会
  2. 三輪和弘，西森勇貴，植木真治，杉山正和，久保田智広，寒川誠二，橋口原, "Recovery of plasma-induced mechanical damage in resonators using neutral bean etching; wafer-scale validation arrayed cantilevers", 超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点終了シンポジウム

　【刊行物】
  1. 美濃卓哉, semiconductorTODAY, UK News 13 September 2011, "Deep ultraviolet goes deeper on silicon"


　2010年度

　【特許】
  • 2010年度研究成果として17件出願．

　【学会発表，論文】
  1. 久保田智広,｢BEANSプロジェクトにおけるナノ立体構造加工関連の最近の成果｣,次世代センサ協議会第58回研究会　(2010).
  2. 梅津光央, 服部峰充, 熊谷泉, 嶋田友一郎, 鈴木瑞明, 杉山正和,｢材料結合性ペプチド・抗体を用いたナノ世界での異種材料接合技術｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  3. 額賀理, 山本敏, 久保田智広, 寒川誠二, 杉山正和,｢合成石英のフェムト秒レーザーアシスト・ドライエッチング＝ナノ周期構造の選択的エッチング＝｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  4. 阿波嵜実, 相馬伸一, 諸貫信行, 杉山正和,｢高アスペクトトレンチへの選択的自己組織化微粒子配列｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  5. 山田英雄, 百瀬健, 北村康宏, 服部有, 杉山正和,｢超臨界流体を用いたSiO2成膜における酸化剤効果｣, 霜垣幸浩,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  6. 百瀬健, 上嶋健嗣, 山田英雄, 霜垣幸浩, 杉山正和,｢MEMS応用に向けた超臨界流体を用いた金属薄膜形成技術の開発｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  7. 美濃卓哉, 高野隆好, 椿健治, 平山秀樹, 杉山正和,｢Si基板上高品質AlNテンプレートの開発｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  8. 李永芳, 冨澤泰, 古賀章浩, 杉山正和, 橋口原, 藤田博之,｢SPMリソグラフィ用耐摩耗マイクロプローブ｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  9. 鈴木瑞明, 杉山正和,｢多点型電極を用いたカーボンナノチューブの誘電泳動｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  10. 久保田智広, 額賀理, 植木真治, 杉山正和, 大竹浩人, 寒川誠二,｢大口径中性粒子ビーム装置の開発とシリコンエッチング｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  11. 冨澤泰, 李永芳, 古賀章浩, 橋口原, 安藤泰久, 藤田博之,｢ナノプローブ先端の力学的挙動と接触抵抗値の関係｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  12. 植木真治, 西森勇貴, 今本浩史, 久保田智広, 杉山正和, 寒川誠二, 橋口原,｢海面準位を考慮した櫛歯アクチュエータの特性解析｣,平成22年度電気学会E部門総合研究会　(2010).
  13. Tomohiro Kubota, Hiroto Ohtake and Seiji Samukawa,"Large-diameter Neutral Beam Source for Practical Low-damage Etching Processes",18th International Vacuum Congress　(2010).
  14. 山田英雄, 百瀬健, 北村康宏, 服部有, 杉山正和, 霜垣幸浩,｢超臨界流体を用いたSiO2成膜における埋め込み特性評価｣,化学工学会第42回秋季大会　(2010).
  15. 百瀬健, 山田英雄, 杉山正和,｢超臨界流体を用いた絶縁性下地上への金属膜形成と埋め込み特性評価｣, 霜垣幸浩,化学工学会第42回秋季大会　(2010).
  16. 久保田智広, 額賀理, 植木真治, 杉山正和, 大竹浩人, 寒川誠二,｢フッ素中性粒子ビームによるシリコンエッチング（2）｣,2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会
  17. O. Nukaga, S. Yamamoto, KV. Tabata, T. Kubota and S. Samukawa,"Patch-Cramp with Lateral Nano-Pipets in Fused Silica Flow Channel Fabricated by Femtosecond Laser Irradiation and Etching",MicroTAS 2010.
  18. 冨澤泰, 李永芳, 古賀章浩, 橋口原, 安藤泰久, 藤田博之,｢二物質同時接触型耐摩耗プローブのトライボロジ特性評価｣,日本機械学会第二回マイクロ・ナノ工学シンポジウム　(2010).
  19. 植木真治, 西森勇貴, 今本浩史, 久保田智広, 杉山正和, 寒川誠二, 橋口原,｢ゲート・チャンネル間の電気機械相互作用を考慮したVB-FETのモデリング｣,日本機械学会第二回マイクロ・ナノ工学シンポジウム　(2010).
  20. T. Kubota, S. Ueki, O. Nukaga, M. Sugiyama, H. Ohtake and S.Samukawa,"Silicon etching using large diameter neutral beam source",American Vacuum Society 57th International Symposium & Exhibition　(2010).
  21. N. Watanabe, S. Ohtsuka, T. Iwasaki, K. Ono, Y. Iriye, O.Nukaga, S. Ueki, T. Kubota, M. Sugiyama and S.Samukawa,"Numerical Simulation of Neutral Beam Generation",American Vacuum Society 57th International Symposium & Exhibition　(2010).
  22. Tomohiro Kubota, Osamu Nukaga, Shinji Ueki, Masakazu Sugiyama, Yoshimasa Inamoto, Hiroto Ohtake and Seiji Samukawa,"200-mm-diameter neutral beam source based on inductively coupled plasma etcher and silicon etching",J. Vac. Sci. Technol. A 28, 1169 (2010).
  23. Y. Tomizawa, Y. Li, A. Koga, Y. Ando, G. Hashiguchi and H. Fijita,"Tribological Evaluation of a Trench Type Wear-Resistant Probe",AsiaTrib2010.
  24. 嶋田友一郎, 梅津光央, 鈴木瑞明, 熊谷泉, 杉山正和,｢無機材料認識ペプチドを用いたシリコン基板へのナノ粒子の選択的配列｣,第33回日本分子生物学会年会第83回日本化学会大会合同大会　(2010).
  25. 久保田智広, 渡辺尚貴, 大塚晋吾, 岩崎拓也, 小野耕平, 入江康郎, 寒川誠二,｢実験と計算の融合による中性粒子ビーム中性化機構の解明｣,インテリジェントナノプロセス研究会　(2010).
  26. M. Abasaki, S. Souma, M. Takeda, N. Moronuki and M. Sugiyama,"SELECTIVE SELF-ASSEMBLY OF NANOPARTICLES ON TRENCH SIDEWALLS AND ITS RELATIONSHIP WITH SCALLOP NANOSTRUCTURE",IEEE MEMS2011.
  27. T. Momose, H. Yamada, Y. Kitamura, Y. Hattori, Y. Shimogaki and M. Sugiyama,"MEMS-COMPATIBLE HIGH-DENSITY TRENCH CAPACITOR WITH ULTRA-CONFORMAL CU/SiO2 LAYERS BY SUPERCRITICAL FLUID DEPOSITION",IEEE MEMS2011.
  28. H. Yamada, T. Momose, Y. Kitamura, Y. Hattori, Y. Shimogaki and M. Sugiyama,"LOW TEMPERATURE CONFORMAL SILICON DIOXIDE DEPOSITION USING SUPERCRITCAL FLUID FOR POLYMER-BASED MEMS",IEEE MEMS2011.
  29. Y.F. Li, Y. Tomizawa, A. Koga, G. Hashiguchi, M. Sugiyama and H. Fujita,"A TRENCH-TYPE ANTI-WEAR MICROPROBE WITH NANO-SCALE ELECTRIC CONTACTS FOR AFM LAO LITHOGRAPHY",IEEE MEMS2011.
  30. Shinji Ueki, Yuki Nishimori, Hiroshi Imamoto, Tomohiro Kubota, Masakazu Sugiyama, Hideki Kawakatsu, Seiji Samukawa, and Gen Hashiguchi ,"Method to evaluate the influence of etching damage on microcantilever surface on its mechanical properties",JJAPJapanese Journal of Applied Physics 50 (2011) 026503.
  31. 大塚晋吾, 渡辺尚貴, 岩崎拓也, 小野耕平, 入江康郎, 額賀理, 植木真治, 久保田智広, 杉山正和, 寒川誠二,｢中性粒子ビーム生成メカニズムの解析｣,みずほ情報総研技報　Vol.3　(2011).
  32. T. Kubota, N. Watanabe, S. Ohtsuka, T. Iwasaki, K. Ono, Y. Iriye and S. Samukawa,"Numerical simulation and mechanism of neutral beam generation by collision of positive and negative chlorine ions with graphite surface",Journal of Physics D: Applied Physics, vol. 44, pp. 125203-1-125203-5 (2011).
  33. 美濃卓哉, 高野隆好, 椿健治, 平山秀樹, 杉山正和,｢ELO-AlNテンプレートを用いたSi基板上UV-LEDの256nm発光｣,2011年春季第58回応用物理学関係連合講演会　(2011).
  34. 山田英雄, 百瀬健, 北村康宏, 服部有, 霜垣幸浩, 杉山正和,｢超臨界流体を用いたSiO2成膜におけるO3添加効果｣,化学工学会　第76年会　(2011).
  35. 岩崎拓也, 小野耕平, 入江康郎, 山田英雄, 百瀬健, 浅海一志, 内田博久, 霜垣幸浩, 杉山正和,｢基板加熱型超臨界製膜装置の数値流体シミュレーション（Ⅱ）｣,化学工学会　第76年会　(2011).
  36. 植木真治, 西森勇貴, 今本浩史, 久保田智広, 杉山正和, 寒川誠二, 橋口原,｢Coupled Vibrating-Body Field Effect Transistorの特性解析｣,IIP2011情報・知能・精密機器部門（IIP部門）講演会.
  37. 植木真治, 西森勇貴, 今本浩史, 久保田智広, 杉山正和, 川勝英樹, 寒川誠二, 橋口原,｢カンチレバー表面のエッチングダメージが及ぼす機械特性への影響評価手法の提案｣,IIP2011情報・知能・精密機器部門（IIP部門）講演会.
  38. 久保田智広, 大塚晋吾, 渡辺尚貴, 岩崎拓也, 小野耕平, 入江康郎, 杉山正和, 大竹浩人, 寒川誠二,｢中性粒子ビームによるシリコンエッチング(3)｣,2011年春季第58回応用物理学関係連合講演会.
  39. 百瀬健, 山田英雄, 北村康宏, 浅海一志, 杉山正和, 霜垣幸浩,｢高アスペクト比トレンチ構造を用いた超臨界流体製膜法による高密度3 次元キャパシタの作製｣,2011年春季第58回応用物理学関係連合講演会.

　【TV･新聞報道】
  1. 日経産業新聞2011年1月7日　3D BEANSセンター　｢ナノ粒子，自在に張り付け｣
  2. 日本経済新聞2011年1月17日　3D BEANSセンター　｢シリコン基板上に微小な蓄電部品｣
  3. 日刊工業新聞2011年1月26日　 3D BEANSセンター　｢プローブリソグラフィ　新構造で耐久性向上｣
  4. 日経産業新聞2011年1月26日　 3D BEANSセンター　｢次世代半導体向け　微細回路，繰り返し描く｣
  5. 電波新聞 2011年1月27日　｢プローブ式の半導体向け描画技術　16ナノ世代以降　耐久性25倍に　東芝など3者｣

　【講演・展示】
  1. 東大生研公開2010　2010年6月3日　｢BEANSプロジェクト　バイオ・有機材料融合プロセスと３次元ナノ構造形成プロセス｣　久保田智弘
  2. 東大生研公開2010　2010年6月3日　｢次世代MEMSデバイスのための低損傷加工｣　久保田智弘

　2009年度

　【特許】
  • 2009年度研究成果として6件出願．

　【学会発表，論文】
  1. 高野隆好,平山秀樹,杉山正和,｢高Al組成InAlGaN4元混晶を用いた深紫外発光量子ドットの結晶成長と発光特性｣,第1回窒化物半導体結晶成長講演会 (2009).
  2. Yasushi Tomizawa, Yongfang Li, Toshikatsu Akiba　Gen Hashiguchi　Koji Miyake, Yasuhisa Ando Masakazu Sugiyama, Hiroyuki Fujita,"Tribological Investigation for a Probe Nano Lithography (and other Applications) using Conductive Atomic Force Microscopy",World Tribology Congress 2009 (2009).
  3. Yongfang Li,Yasushi Tomizawa,Toshikatsu Akiba,Gen,Hashiguchi,Koji Miyake,Yasuhisa Ando,Masakazu Sugiyama, Hiroyuki Fujita,"Wear and Friction Characteristics of a Pencil　Type Microprobe for SPM Lithography",World Tribology Congress 2009 (2009).
  4. 久保田智広,額賀　理,植木真治,杉山正和,寒川誠二,｢中性粒子ビームの解析（２）～大口径中性粒子ビーム装置への適用～｣,2009年秋季　第70回応用物理学会学術講演会 (2009).
  5. 百瀬健,上嶋健嗣,山田英雄,杉山正和,霜垣幸浩,｢高アスペクト比対応Ｃｕ超臨界製膜プロセスのＭＥＭＳ応用に向けた表面選択性制御｣,2009年秋季　第70回応用物理学会学術講演会 (2009).
  6. 額賀理,山本敏,久保田智広,杉山正和,寒川誠二,｢合成石英のフェムト秒レーザーアシスト・ドライエッチング（１）＝選択性評価＝｣,2009年秋季　第70回応用物理学会学術講演会 (2009).
  7. 渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,額賀理,植木真治,久保田智広,寒川誠二,｢第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析II｣,2009年秋季　第70回応用物理学会学術講演会 (2009).
  8. 阿波嵜実,相馬伸一,諸貫信行,杉山正和,｢ＤＲＩＥ加工溝側壁の濡れ性を利用した選択的微粒子自己整列｣,日本機械学会　2009年度年次大会 (2009).
  9. T. Momose, T. Uejima, H. Yamada, M. Sugiyama, and Y. Shimogaki,"Ultra-Conformal Metal Coating on High-aspect-ratio 3D Structures using Supercritical Fluid:Controlled Selectivity/Non-Selectivity",2009 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2009).
  10. 高野隆好,平山秀樹,杉山正和,｢InAlGaN四元混晶半導体を用いた深紫外発光量子ドットの作製及び制御｣,第26回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム (2009).
  11. 植木真治,今本浩史,久保田智広,杉山正和,寒川誠二,橋口 原,西森勇貴,｢半導体への電界の浸みこみを考慮した静電アクチュエータの特性解析｣,第26回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム (2009).
  12. 渡辺尚貴,大塚晋吾,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,額賀理,植木真治,久保田智広,杉山正和,寒川誠二,｢第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析Ⅲ｣,2010年春季　第57回応用物理関係連合講演会 (2010).
  13. 冨澤泰,李永芳,古賀章浩,橋口原,安藤泰久,藤田博之,｢ナノサイズプローブ先端の電気的コンタクト特性｣,日本機械学会　ＩＩＰ（情報・知能・精密機器）部門講演会 (2010).
  14. 額賀理,山本敏,久保田智広,杉山正和,寒川誠二,｢合成石英のフェムト秒レーザーアシスト・ドライエッチング（２）＝ナノ周期構造の選択的エッチング＝｣,2010年春季　第57回応用物理関係連合講演会 (2010).
  15. 久保田智広,額賀理,植木真治,杉山正和,寒川誠二,｢中性粒子ビームの解析（３）～ビーム角度分布の測定～｣,2010年春季　第57回応用物理関係連合講演会 (2010).
  16. 久保田智広,額賀理,植木真治,杉山正和,大竹浩人,寒川誠二,｢フッ素中性粒子ビームによるシリコンエッチング｣,2010年春季　第57回応用物理関係連合講演会 (2010).
  17. 山田英雄,百瀬健,北村康宏,川原伸章,杉山正和,霜垣幸浩,｢超臨界流体を用いたSiO2製膜における酸化剤効果｣,化学工学会　第75年会 (2010).
  18. 岩崎拓也,小野耕平,鈴木幸人,入江康郎,山田英雄,百瀬健,浅海一志,霜垣幸浩,杉山正和,｢基板加熱型超臨界製膜装置の数値流体シミュレーション｣,化学工学会　第75年会 (2010).
  19. 百瀬健,上嶋健嗣,山田英雄,杉山正和,霜垣幸浩,｢CuMnOx密着層を用いた超臨界Cu製膜の下地選択性制御｣,化学工学会　第75年会 (2010).



　2008年度
　
　【特許】
  • 2008年度研究成果として1件出願．

　【学会発表，論文】
  1. 諸貫信行: "Integration of Top-Down and Bottom –up Processes″，第25回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム,（2008）.
  2. 山田英雄，百瀬健，和戸弘幸，竹内幸裕，川原伸章，杉山正和，霜垣幸浩: 「超臨界流体を用いたSiO2製膜の開発」，化学工学会 第74回年会，（2009）.
  3. 久保田智広，額賀理，植木真治，杉山正和，寒川誠二: 「中性粒子ビームの解析（１）」，2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会（2009）.
  4. 渡辺尚貴，新田仁，小野耕平，入江康郎，額賀理，植木真治，久保田智広，寒川誠二: 「第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析」，2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会（2009）.
  5. 高野隆好，藤川紗千恵，平山秀樹，杉山正和: 「InAlGaN四元混晶半導体を用いた深紫外発光量子ドットの作製」，2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会（2009）.


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